公开(公告)号：US4833930A

公开(公告)日：1989-05-30

申请号：US79142

申请日：1987-07-28

申请人： Kaizo Okamoto ,  Akira Ichihara ,  Akimune Sato ,  Kenji Hirata ,  Katsuhisa Hirayama ,  Eiji Hina ,  Shigeru Makaji ,  Minoru Sakamoto ,  Takashi Tanaka ,  Keizo Shimizu

发明人： Kaizo Okamoto ,  Akira Ichihara ,  Akimune Sato ,  Kenji Hirata ,  Katsuhisa Hirayama ,  Eiji Hina ,  Shigeru Makaji ,  Minoru Sakamoto ,  Takashi Tanaka ,  Keizo Shimizu

IPC分类号： B23C5/10 ,  B22D11/16 ,  B23B51/04 ,  B23P23/00 ,  G01N1/04 ,  G01N1/08

CPC分类号： G01N1/04 ,  Y10S83/919

摘要： A method and a device for collecting a quantoback analysis sample in hot state from a preferred position of a continuously cast steel piece are disclosed. According to this invention, a dish like recess is cut on the surface of cast steel piece while leaving a center column, then the root of left center column is root cut and taken out as sample. A cutting device and a way for accessing the cutting device are presented for operating this process.

摘要翻译： 公开了一种用于从连续铸钢件的优选位置收集热状态的回旋分析样品的方法和装置。 根据本发明，在铸钢件的表面上切下碟形凹槽，同时留下中心柱，然后将左中心柱的根切割并作为样品取出。 呈现切割装置和用于访问切割装置的方式用于操作该过程。

公开(公告)号：US4942773A

公开(公告)日：1990-07-24

申请号：US326726

申请日：1989-03-21

申请人： Kaizo Okamoto ,  Akira Ichihara ,  Akimune Sato ,  Kenji Hirata ,  Katsuhisa Hirayama ,  Eiji Hina ,  Shigeru Nakaji ,  Minoru Sakamoto ,  Takashi Tanaka ,  Keizo Shimizu

发明人： Kaizo Okamoto ,  Akira Ichihara ,  Akimune Sato ,  Kenji Hirata ,  Katsuhisa Hirayama ,  Eiji Hina ,  Shigeru Nakaji ,  Minoru Sakamoto ,  Takashi Tanaka ,  Keizo Shimizu

IPC分类号： G01N1/04

CPC分类号： G01N1/04

摘要： A cutting device for collecting a quantoback analysis sample in a hot state from a preferred position of a continuously cast steel piece is disclosed. According to this invention, a dish like recess is cut on the surface of a cast steel piece while leaving a center column, then the root of the center column is cut and the cut free portion taken out as a sample.

摘要翻译： 公开了一种用于从连续铸钢件的优选位置收集热状态的回转分析样品的切割装置。 根据本发明，在铸钢件的表面上切割碟形凹槽，同时留下中心柱，然后切割中心柱的根部，并将切出的部分作为样品取出。

公开(公告)号：US5241151A

公开(公告)日：1993-08-31

申请号：US905908

申请日：1992-06-29

申请人： Yutaka Naruse ,  Yoshinori Anabuki ,  Kaizo Okamoto ,  Eiji Hina ,  Kiyoshi Wakabayashi ,  Takayuki Naoi ,  Hitoshi Aizawa

发明人： Yutaka Naruse ,  Yoshinori Anabuki ,  Kaizo Okamoto ,  Eiji Hina ,  Kiyoshi Wakabayashi ,  Takayuki Naoi ,  Hitoshi Aizawa

IPC分类号： C21D9/46 ,  C21D1/09 ,  C21D8/12 ,  C21D9/56

CPC分类号： C21D8/1294 ,  C21D9/56 ,  C21D1/09

摘要： An electron beam irradiating apparatus continuously irradiates a running metal strip with an electron beam. An electron beam source can deflect the electron beam. At least one standby target is provided to receive the electron beam from the electron beam gun in a standby period in which the metal strip is not intended to be irradiated.