公开(公告)号：US5382342A

公开(公告)日：1995-01-17

申请号：US4767

申请日：1993-01-14

申请人： Richard M. Bionta ,  Daniel M. Makowiecki ,  Kenneth M. Skulina

发明人： Richard M. Bionta ,  Daniel M. Makowiecki ,  Kenneth M. Skulina

IPC分类号： C23C14/16 ,  C23C14/56 ,  G21K1/10 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/16 ,  C23C14/562 ,  G21K1/10

摘要： A process for fabricating high efficiency x-ray lenses that operate in the 0.5-4.0 keV region suitable for use in biological imaging, surface science, and x-ray lithography of integrated circuits. The gradient index x-ray optics fabrication process broadly involves co-sputtering multi-layers of film on a wire, followed by slicing and mounting on block, and then ion beam thinning to a thickness determined by periodic testing for efficiency. The process enables the fabrication of transmissive gradient index x-ray optics for the 0.5-4.0 keV energy range. This process allows the fabrication of optical elements for the next generation of imaging and x-ray lithography instruments m the soft x-ray region.

摘要翻译： 一种用于制造在0.5-4.0keV区域内工作的高效x射线透镜的方法，适用于集成电路的生物成像，表面科学和x射线光刻。 梯度指数x射线光学制造工艺广泛涉及在线上共同溅射多层膜，然后在块上切片并安装，然后将离子束薄化至通过周期性测试确定的厚度以获得效率。 该过程使得能够制造用于0.5-4.0keV能量范围的透射梯度折射率x射线光学器件。 该过程允许在软x射线区域制造用于下一代成像的光学元件和x射线光刻仪器。

公开(公告)号：US06521101B1

公开(公告)日：2003-02-18

申请号：US08762572

申请日：1996-12-09

申请人： Kenneth M. Skulina ,  Richard M. Bionta ,  Daniel M. Makowiecki ,  Craig S. Alford

发明人： Kenneth M. Skulina ,  Richard M. Bionta ,  Daniel M. Makowiecki ,  Craig S. Alford

IPC分类号： C23C1434

CPC分类号： B82Y10/00 ,  C23C14/14 ,  C23C14/564 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

摘要： Beryllium-based multilayer structures and a process for fabricating beryllium-based multilayer mirrors, useful in the wavelength region greater than the beryllium K-edge (111 Å or 11.1 nm). The process includes alternating sputter deposition of beryllium and a metal, typically from the fifth row of the periodic table, such as niobium (Nb), molybdenum (Mo), ruthenium (Ru), and rhodium (Rh). The process includes not only the method of sputtering the materials, but the industrial hygiene controls for safe handling of beryllium. The mirrors made in accordance with the process may be utilized in soft x-ray and extreme-ultraviolet projection lithography, which requires mirrors of high reflectivity (>60%) for x-rays in the range of 60-140 Å (60-14.0 nm).

摘要翻译： 铍基多层结构和制造铍基多层反射镜的方法，可用于大于铍K边缘（111或11.1nm）的波长区域。 该方法包括交替溅射沉积铍和通常从元素周期表第五行的金属，例如铌（Nb），钼（Mo），钌（Ru）和铑（Rh）。 该方法不仅包括溅射材料的方法，还包括用于安全处理铍的工业卫生控制。 根据该方法制造的反射镜可用于软X射线和极紫外投影光刻，其需要60-140埃（60-14.0）范围内的X射线具有高反射率（> 60％）的反射镜 nm）。