公开(公告)号：US5524131A

公开(公告)日：1996-06-04

申请号：US441641

申请日：1995-05-15

申请人： Shunichi Uzawa ,  Takao Kariya ,  Makoto Higomura ,  Nobutoshi Mizusawa ,  Ryuichi Ebinuma ,  Kohji Uda ,  Kunitaka Ozawa ,  Mitsuaki Amemiya ,  Eiji Sakamoto ,  Naoto Abe ,  Kenji Saitoh

发明人： Shunichi Uzawa ,  Takao Kariya ,  Makoto Higomura ,  Nobutoshi Mizusawa ,  Ryuichi Ebinuma ,  Kohji Uda ,  Kunitaka Ozawa ,  Mitsuaki Amemiya ,  Eiji Sakamoto ,  Naoto Abe ,  Kenji Saitoh

IPC分类号： G21K1/06 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H05H13/04 ,  G21K5/00

CPC分类号： G03F7/70008 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70975 ,  G03F9/70 ,  G21K1/06

摘要： A semiconductor device manufacturing SOR X-ray exposure apparatus wherein, after a mask and a semiconductor wafer are aligned, and SOR X-ray is used to transfer a semiconductor device pattern on the mask onto a resist on the semiconductor wafer. The apparatus includes a mirror unit and an exposure unit for exposing the wafer through the mask to the X-ray from the mirror unit. The mirror unit includes an X-ray mirror for diverging the X-ray in a desired direction, a first chamber for providing a desired vacuum ambience around the X-ray mirror and a first supporting device for supplying the X-ray mirror. The exposure unit includes a shutter for controlling the exposure, a mask stage for holding the mask, a wafer stage for holding the wafer, a second chamber for providing a desired He ambience around the mask stage and the wafer stage, a frame structure for mounting the mask stage and the wafer stage and a second supporting device for supporting the frame structure. By this, a more highly integrated semiconductor device can be produced.

摘要翻译： 一种制造SOR X射线曝光装置的半导体器件，其中在掩模和半导体晶片对准之后，使用SOR X射线将掩模上的半导体器件图案转印到半导体晶片上的抗蚀剂上。 该装置包括反射镜单元和曝光单元，用于将晶片通过掩模曝光到来自反射镜单元的X射线。 镜单元包括用于沿所需方向分散X射线的X射线镜，用于在X射线反射镜周围提供期望的真空环境的第一腔室和用于供给X射线镜的第一支撑装置。 曝光单元包括用于控制曝光的快门，用于保持掩模的掩模台，用于保持晶片的晶片台，用于在掩模台和晶片台周围提供期望的He环境的第二室，用于安装的框架结构 掩模台和晶片台以及用于支撑框架结构的第二支撑装置。 由此，可以制造更高度集成的半导体器件。

公开(公告)号：US5822389A

公开(公告)日：1998-10-13

申请号：US464038

申请日：1995-06-05

申请人： Shunichi Uzawa ,  Takao Kariya ,  Makoto Higomura ,  Nobutoshi Mizusawa ,  Ryuichi Ebinuma ,  Kohji Uda ,  Kunitaka Ozawa ,  Mitsuaki Amemiya ,  Eiji Sakamoto ,  Naoto Abe ,  Kenji Saitoh

发明人： Shunichi Uzawa ,  Takao Kariya ,  Makoto Higomura ,  Nobutoshi Mizusawa ,  Ryuichi Ebinuma ,  Kohji Uda ,  Kunitaka Ozawa ,  Mitsuaki Amemiya ,  Eiji Sakamoto ,  Naoto Abe ,  Kenji Saitoh

IPC分类号： G21K1/06 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  H05H13/04 ,  G21K5/00

CPC分类号： G03F7/70008 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70975 ,  G03F9/70 ,  G21K1/06

摘要： A synchrotron exposure includes a synchrotron radiation source for generating a synchrotron radiation beam, and exposure unit having a mask stage for holding a mask and a wafer stage for holding a waver, a beam port for directing the radiation beam to the exposure unit, a mirror unit having a mirror for reflecting the radiation beam, a pre-alignment system for aligning the wafer relative to the wafer stage, a fine-alignment system for aligning the wafer held by the wafer stage relative to the mask held by the mask stage, a mask storage apparatus for storing the mask, a wafer storage apparatus for storing the wafer, a mask conveying apparatus for conveying the mask between the mask storage apparatus and the mask stage and a wafer conveying apparatus for conveying a wafer between the wafer storage apparatus and the wafer stage.

摘要翻译： 同步加速器曝光包括用于产生同步加速器辐射束的同步加速器辐射源，以及具有用于保持掩模的掩模台和用于保持摇摆的晶片台的曝光单元，用于将辐射束引导到曝光单元的光束端口 具有用于反射辐射束的反射镜的单元，用于使晶片相对于晶片台对准的预对准系统，用于使由晶片台保持的晶片相对于由掩模台保持的掩模对准的精细对准系统， 用于存储掩模的掩模存储装置，用于存储晶片的晶片存储装置，用于在掩模存储装置和掩模台之间传送掩模的掩模传送装置和用于在晶片存储装置和掩模载台之间传送晶片的晶片传送装置 晶圆台。