公开(公告)号：US20080129208A1

公开(公告)日：2008-06-05

申请号：US11667180

申请日：2005-11-01

申请人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Mike L. Dougherty ,  Kuruvilla Cherian

发明人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Mike L. Dougherty ,  Kuruvilla Cherian

IPC分类号： H05H1/46 ,  B23K9/00 ,  B23K1/012

CPC分类号： B23K1/012 ,  C23C8/38 ,  C23C26/02 ,  H01J37/32192

摘要： An atmospheric plasma processing system is presented. In accordance with embodiments of the present invention, an atmospheric pressure plasma microwave processing apparatus includes a processing area or chamber wherein parts are processed; at least one multi-mode microwave reactor coupled to receive parts for processing; at least one magnetron coupled to at least one multi-mode microwave reactor to provide microwave energy; and a delivery system coupled to at least one multi-mode microwave reactor to deliver the parts into and out of at least one reactor, wherein a plasma can be generated at atmospheric pressure and provided to the parts in at least one multi-mode microwave reactor.

摘要翻译： 提出了一种大气等离子体处理系统。 根据本发明的实施例，大气压等离子体微波处理设备包括处理区域或室，其中处理部件; 耦合以接收用于处理的部件的至少一个多模式微波反应器; 耦合到至少一个多模微波反应器以提供微波能量的至少一个磁控管; 以及耦合到至少一个多模微波反应器以将部件输送到至少一个反应器中的输送系统，其中等离子体可以在大气压下产生并提供给至少一个多模微波反应器中的部件 。

公开(公告)号：US20060233682A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：US10513606

申请日：2003-05-07

申请人： Kuruvilla Cherian ,  Devendra Kumar ,  Satyendra Kumar

发明人： Kuruvilla Cherian ,  Devendra Kumar ,  Satyendra Kumar

IPC分类号： B01J19/08

CPC分类号： B01J19/088 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/806 ,  B01D2259/818 ,  B01J2219/0883 ,  B01J2219/0892 ,  F01N3/0892

摘要： Methods and apparatus are provided for plasma-assisted engine exhaust treatment. In one embodiment, an engine exhaust treatment system includes at least one conduit with an inlet portion (215), an outlet portion (216), an intermediate portion (205), and at least one plasma cavity (210). The inlet portion is configured to connect to an engine block (510) and receive an exhaust gas. The outlet portion emits the exhaust gas after plasma treatment. The intermediate portion conveys the exhaust gas from the inlet portion to the outlet portion. In one embodiment, one or more plasma cavities (342, 344, 346) are located proximate to the inlet portion for treating the exhaust gas. The system also includes an electromagnetic radiation source (340) connected to the cavities for supplying radiation to the cavities, wherein the radiation has a frequency less than about 333 GHz. Exhaust gas treatments that use plasma catalysts (70, 170) are also provided.

摘要翻译： 提供了等离子体辅助发动机排气处理的方法和装置。 在一个实施例中，发动机排气处理系统包括具有入口部分（215），出口部分（216），中间部分（205）和至少一个等离子体腔（210）的至少一个管道。 入口部分被配置成连接到发动机缸体（510）并接收废气。 出口部分在等离子体处理后排出废气。 中间部分将废气从入口部分输送到出口部分。 在一个实施例中，一个或多个等离子体空腔（342,344,346）位于入口部分附近以用于处理废气。 该系统还包括连接到空腔的电磁辐射源（340），用于向空腔提供辐射，其中辐射具有小于约333GHz的频率。 还提供了使用等离子体催化剂（70,170）的废气处理。

公开(公告)号：US20060228497A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：US11384104

申请日：2006-03-17

申请人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Kuruvilla Cherian ,  Phillip Rotman ,  Ramesh Peelamedy

发明人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Kuruvilla Cherian ,  Phillip Rotman ,  Ramesh Peelamedy

IPC分类号： H05H1/02 ,  H05H1/24

CPC分类号： C23C16/452 ,  B82Y30/00 ,  C23C16/40 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607

摘要： Methods and apparatus are provided for igniting, modulating, and sustaining a plasma for various coating processes. In one embodiment, the surface of an object can be coated by forming a plasma in a cavity by subjecting a gas to an amount of electromagnetic radiation power in the presence of a plasma catalyst and adding at least one coating material to the plasma. The material is allowed to deposit on the surface of the object to form a coating. Various plasma catalysts are also provided. Coatings can include any material, for example, carbon nanotubes, BaTiO3, Cr2O3, hafnium oxide, 3Al2O3.2SiO2, Al2O3, SiAlON, MgAl2O4, TiN, and TiO2.

摘要翻译： 提供了用于点燃，调节和维持用于各种涂覆过程的等离子体的方法和装置。 在一个实施例中，可以通过在等离子体催化剂的存在下对气体进行一定量的电磁辐射能量并且在等离子体中加入至少一种涂层材料来在空腔中形成等离子体来涂覆物体的表面。 允许材料沉积在物体的表面上以形成涂层。 还提供了各种等离子体催化剂。 涂层可以包括任何材料，例如碳纳米管，BaTiO 3，Cr 2 O 3，氧化铪，3Al 2， 3SiO 2，Al 2 O 3，SiAlON，MgAl 2 O 3，N 2 O 3， O 3，TiN和TiO 2。