公开(公告)号：US20060228497A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：US11384104

申请日：2006-03-17

申请人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Kuruvilla Cherian ,  Phillip Rotman ,  Ramesh Peelamedy

发明人： Satyendra Kumar ,  Devendra Kumar ,  Kuruvilla Cherian ,  Phillip Rotman ,  Ramesh Peelamedy

IPC分类号： H05H1/02 ,  H05H1/24

CPC分类号： C23C16/452 ,  B82Y30/00 ,  C23C16/40 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607

摘要： Methods and apparatus are provided for igniting, modulating, and sustaining a plasma for various coating processes. In one embodiment, the surface of an object can be coated by forming a plasma in a cavity by subjecting a gas to an amount of electromagnetic radiation power in the presence of a plasma catalyst and adding at least one coating material to the plasma. The material is allowed to deposit on the surface of the object to form a coating. Various plasma catalysts are also provided. Coatings can include any material, for example, carbon nanotubes, BaTiO3, Cr2O3, hafnium oxide, 3Al2O3.2SiO2, Al2O3, SiAlON, MgAl2O4, TiN, and TiO2.

摘要翻译： 提供了用于点燃，调节和维持用于各种涂覆过程的等离子体的方法和装置。 在一个实施例中，可以通过在等离子体催化剂的存在下对气体进行一定量的电磁辐射能量并且在等离子体中加入至少一种涂层材料来在空腔中形成等离子体来涂覆物体的表面。 允许材料沉积在物体的表面上以形成涂层。 还提供了各种等离子体催化剂。 涂层可以包括任何材料，例如碳纳米管，BaTiO 3，Cr 2 O 3，氧化铪，3Al 2， 3SiO 2，Al 2 O 3，SiAlON，MgAl 2 O 3，N 2 O 3， O 3，TiN和TiO 2。