公开(公告)号：US08012883B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US11897383

申请日：2007-08-29

申请人： Luis A. Gomez ,  Jason A. Reese

发明人： Luis A. Gomez ,  Jason A. Reese

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： C03C17/06 ,  C03C2218/33 ,  C09K13/06

摘要： Methods are provided for manufacturing optical display devices which remove an etch resist and residual post-etch metal in a single step. These methods are particularly useful in the manufacture of LCDs.

摘要翻译： 提供了用于制造在单个步骤中去除蚀刻抗蚀剂和残留的后蚀刻金属的光学显示装置的方法。 这些方法在LCD的制造中特别有用。

公开(公告)号：US20080053956A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：US11897383

申请日：2007-08-29

申请人： Luis A. Gomez ,  Jason A. Reese

发明人： Luis A. Gomez ,  Jason A. Reese

IPC分类号： C03C15/00

CPC分类号： C03C17/06 ,  C03C2218/33 ,  C09K13/06

摘要： Methods are provided for manufacturing optical display devices which remove an etch resist and residual post-etch metal in a single step. These methods are particularly useful in the manufacture of LCDs.

摘要翻译： 提供了用于制造在单个步骤中去除蚀刻抗蚀剂和残留的后蚀刻金属的光学显示装置的方法。 这些方法在LCD的制造中特别有用。

公开(公告)号：US06508924B1

公开(公告)日：2003-01-21

申请号：US09584124

申请日：2000-05-31

申请人： Luis A. Gomez ,  Rozalia Beica ,  Denis Morrissey ,  Eugene N. Step

发明人： Luis A. Gomez ,  Rozalia Beica ,  Denis Morrissey ,  Eugene N. Step

IPC分类号： C25D2118

CPC分类号： H01L21/2885 ,  C25D7/12 ,  C25D21/12

摘要： Disclosed are methods for analyzing additive breakdown products in electroplating baths as well as methods of controlling the presence of such breakdown products in electroplating baths.

摘要翻译： 公开了用于分析电镀浴中的添加剂分解产物的方法以及在电镀浴中控制这种分解产物的存在的方法。