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    Recording Head for Heat Assisted Magnetic Recording with a Side Lobe Blocker
    1.
    发明申请
    Recording Head for Heat Assisted Magnetic Recording with a Side Lobe Blocker 有权
    记录头用于辅助磁记录与侧挡板

    公开(公告)号：US20130100783A1

    公开(公告)日：2013-04-25

    申请号：US13280981

    申请日：2011-10-25

    申请人： Mark Henry Ostrowski ,  Jie Zou ,  Amit Itagi ,  Kaizhong Gao

    发明人： Mark Henry Ostrowski ,  Jie Zou ,  Amit Itagi ,  Kaizhong Gao

    IPC分类号： G11B7/1387

    CPC分类号： G11B5/1278 ,  G11B5/3136 ,  G11B5/314 ,  G11B5/6088 ,  G11B2005/0021

    摘要： An apparatus includes a waveguide having a core layer, a near field transducer having an end positioned adjacent to a first surface, a first magnetic pole having an end positioned adjacent to the first surface, and a side lobe blocker adjacent to the first surface and having portions on opposite sides of the first magnetic pole and the near field transducer, wherein the side lobe blocker forms an aperture at an end of the core layer adjacent to the first surface.

    摘要翻译： 一种装置包括具有芯层的波导，具有邻近第一表面定位的端部的近场换能器，具有邻近第一表面定位的端部的第一磁极和与第一表面相邻的旁瓣阻挡件，并且具有 在第一磁极和近场换能器的相对侧上的部分，其中旁瓣阻挡件在与芯片层的第一表面相邻的端部处形成孔。

    Laser Recess Head Gimbal Assembly
    2.
    发明申请
    Laser Recess Head Gimbal Assembly 有权
    激光凹槽头万向节组件

    公开(公告)号：US20130028060A1

    公开(公告)日：2013-01-31

    申请号：US13194815

    申请日：2011-07-29

    申请人： Yongjun Zhao ,  Mike Allen Seigler ,  Mark Henry Ostrowski

    发明人： Yongjun Zhao ,  Mike Allen Seigler ,  Mark Henry Ostrowski

    IPC分类号： G11B11/00

    CPC分类号： G11B5/6088 ,  G11B5/314 ,  G11B2005/0021

    摘要： A slider may have a first surface on an air bearing surface (ABS) and a laser recess formed in a second surface of the slider, opposite the first surface. A laser can then be positioned in the laser recess with the laser extending from the slider to a top plane. A stud may be formed adjacent to and separated from the laser on the second surface of the slider with the stud extending from the second surface of the slider to the top plane.

    摘要翻译： 滑块可以具有在空气轴承表面（ABS）上的第一表面和形成在滑块的与第一表面相对的第二表面中的激光凹部。 然后激光可以被定位在激光器凹部中，激光从滑块延伸到顶平面。 螺柱可以在滑块的第二表面上邻近并与激光器分离形成，其中螺柱从滑块的第二表面延伸到顶平面。

    Recording head for heat assisted magnetic recording with a side lobe blocker
    4.
    发明授权
    Recording head for heat assisted magnetic recording with a side lobe blocker 有权
    带旁瓣阻断器的热辅助磁记录记录头

    公开(公告)号：US08576673B2

    公开(公告)日：2013-11-05

    申请号：US13280981

    申请日：2011-10-25

    申请人： Mark Henry Ostrowski ,  Jie Zou ,  Amit Itagi ,  Kaizhong Gao

    发明人： Mark Henry Ostrowski ,  Jie Zou ,  Amit Itagi ,  Kaizhong Gao

    IPC分类号： G11B11/00

    CPC分类号： G11B5/1278 ,  G11B5/3136 ,  G11B5/314 ,  G11B5/6088 ,  G11B2005/0021

    摘要： An apparatus includes a waveguide having a core layer, a near field transducer having an end positioned adjacent to a first surface, a first magnetic pole having an end positioned adjacent to the first surface, and a side lobe blocker adjacent to the first surface and having portions on opposite sides of the first magnetic pole and the near field transducer, wherein the side lobe blocker forms an aperture at an end of the core layer adjacent to the first surface.

    摘要翻译： 一种装置包括具有芯层的波导，具有邻近第一表面定位的端部的近场换能器，具有邻近第一表面定位的端部的第一磁极和与第一表面相邻的旁瓣阻挡件，并且具有 在第一磁极和近场换能器的相对侧上的部分，其中旁瓣阻挡件在与芯片层的第一表面相邻的端部处形成孔。

    Laser recess head gimbal assembly
    5.
    发明授权
    Laser recess head gimbal assembly 有权
    激光凹头万向架组件

    公开(公告)号：US08514671B2

    公开(公告)日：2013-08-20

    申请号：US13194815

    申请日：2011-07-29

    申请人： Yongjun Zhao ,  Mike Allen Seigler ,  Mark Henry Ostrowski

    发明人： Yongjun Zhao ,  Mike Allen Seigler ,  Mark Henry Ostrowski

    IPC分类号： G11B5/00

    CPC分类号： G11B5/6088 ,  G11B5/314 ,  G11B2005/0021

    摘要： A slider may have a first surface on an air bearing surface (ABS) and a laser recess formed in a second surface of the slider, opposite the first surface. A laser can then be positioned in the laser recess with the laser extending from the slider to a top plane. A stud may be formed adjacent to and separated from the laser on the second surface of the slider with the stud extending from the second surface of the slider to the top plane.

    摘要翻译： 滑动件可以具有在空气轴承表面（ABS）上的第一表面和形成在滑块的与第一表面相对的第二表面中的激光凹部。 然后激光可以被定位在激光器凹部中，激光从滑块延伸到顶平面。 螺柱可以在滑块的第二表面上邻近并与激光器分离形成，其中螺柱从滑块的第二表面延伸到顶平面。

    Magnetic device definition with uniform biasing control
    7.
    发明授权
    Magnetic device definition with uniform biasing control 有权
    具有均匀偏置控制的磁性装置定义

    公开(公告)号：US08318030B2

    公开(公告)日：2012-11-27

    申请号：US12502180

    申请日：2009-07-13

    申请人： Xilin Peng ,  Stacey C. Wakeham ,  Yifan Zhang ,  Zhongyan Wang ,  Konstantin R. Nikolaev ,  Mark Henry Ostrowski ,  Yonghua Chen ,  Juren Ding

    发明人： Xilin Peng ,  Stacey C. Wakeham ,  Yifan Zhang ,  Zhongyan Wang ,  Konstantin R. Nikolaev ,  Mark Henry Ostrowski ,  Yonghua Chen ,  Juren Ding

    IPC分类号： B44C1/22

    CPC分类号： G11B5/3909 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/098 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3932 ,  G11B5/3967

    摘要： A method of fabricating a magnetic device is described. A mask removing layer is formed on a layered sensing stack and a hard mask layer is formed on the mask removing layer. A first reactive ion etch is performed with a non-oxygen-based chemistry to define the hard mask layer using an imaged layer formed on the hard mask layer as a mask. A second reactive ion etch is performed with an oxygen-based chemistry to define the mask removing stop layer using the defined hard mask layer as a mask. A third reactive ion etch is performed to define the layered sensing stack using the hard mask layer as a mask. The third reactive ion etch includes an etching chemistry that performs at a lower etching rate on the hard mask layer than on the layered sensing stack.

    摘要翻译： 描述制造磁性装置的方法。 在层叠感测堆叠上形成掩模移除层，并且在掩模移除层上形成硬掩模层。 使用非氧基化学法进行第一反应离子蚀刻，以使用形成在硬掩模层上的成像层作为掩模来限定硬掩模层。 使用氧基化学法进行第二反应离子蚀刻，以使用限定的硬掩模层作为掩模来限定掩模去除停止层。 执行第三反应离子蚀刻以使用硬掩模层作为掩模来定义分层感测堆叠。 第三反应离子蚀刻包括蚀刻化学品，其在硬掩模层上的蚀刻速率低于分层感测叠层。

    Magnetic Device Definition with Uniform Biasing Control
    8.
    发明申请
    Magnetic Device Definition with Uniform Biasing Control 有权
    具有均匀偏置控制的磁性装置定义

    公开(公告)号：US20110006033A1

    公开(公告)日：2011-01-13

    申请号：US12502180

    申请日：2009-07-13

    申请人： Xilin Peng ,  Stacey Wakeham ,  Yifan Zhang ,  Zhongyan Wang ,  Konstantin Nikolaev ,  Mark Henry Ostrowski ,  Yonghua Chen ,  Juren Ding

    发明人： Xilin Peng ,  Stacey Wakeham ,  Yifan Zhang ,  Zhongyan Wang ,  Konstantin Nikolaev ,  Mark Henry Ostrowski ,  Yonghua Chen ,  Juren Ding

    IPC分类号： B44C1/22

    CPC分类号： G11B5/3909 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/098 ,  G11B5/1278 ,  G11B5/3932 ,  G11B5/3967

    摘要： A method of fabricating a magnetic device is described. A mask removing layer is formed on a layered sensing stack and a hard mask layer is formed on the mask removing layer. A first reactive ion etch is performed with a non-oxygen-based chemistry to define the hard mask layer using an imaged layer formed on the hard mask layer as a mask. A second reactive ion etch is performed with an oxygen-based chemistry to define the mask removing stop layer using the defined hard mask layer as a mask. A third reactive ion etch is performed to define the layered sensing stack using the hard mask layer as a mask. The third reactive ion etch includes an etching chemistry that performs at a lower etching rate on the hard mask layer than on the layered sensing stack.

    摘要翻译： 描述制造磁性装置的方法。 在层叠感测堆叠上形成掩模移除层，并且在掩模移除层上形成硬掩模层。 使用非氧基化学法进行第一反应离子蚀刻，以使用形成在硬掩模层上的成像层作为掩模来限定硬掩模层。 使用氧基化学法进行第二反应离子蚀刻，以使用限定的硬掩模层作为掩模来限定掩模去除停止层。 执行第三反应离子蚀刻以使用硬掩模层作为掩模来定义分层感测堆叠。 第三反应离子蚀刻包括蚀刻化学品，其在硬掩模层上的蚀刻速率低于分层感测叠层。