公开(公告)号：US08121258B2

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：US12667464

申请日：2008-07-02

申请人： Peter Hoghoj ,  Pascal Boulee ,  Paraskevi Ntova ,  Sergio Rodrigues

发明人： Peter Hoghoj ,  Pascal Boulee ,  Paraskevi Ntova ,  Sergio Rodrigues

IPC分类号： H01J35/10

CPC分类号： H01J35/10 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/14 ,  H01J35/20

摘要： The invention relates to X-ray analytical instruments (RX), more precisely a device for providing a high energy X-ray beam, typically above 4 keV, for X-ray analysis applications. The device comprises an X-ray tube with a turning anode and an X-ray lens for shaping the beam.

摘要翻译： 本发明涉及X射线分析仪器（RX），更准确地说，一种用于提供通常高于4keV的高能X射线束用于X射线分析应用的装置。 该装置包括具有转向阳极的X射线管和用于使束成形的X射线透镜。

公开(公告)号：US20110255668A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US12667464

申请日：2008-07-02

申请人： Peter Hoghoj ,  Pascal Boulee ,  Paraskevi Ntova ,  Sergio Rodrigues

发明人： Peter Hoghoj ,  Pascal Boulee ,  Paraskevi Ntova ,  Sergio Rodrigues

IPC分类号： H01J35/10

CPC分类号： H01J35/10 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/14 ,  H01J35/20

摘要： The invention relates to X-ray analytical instruments (RX), more precisely a device for providing a high energy X-ray beam, typically above 4 keV, for X-ray analysis applications. The device comprises an X-ray tube with a turning anode and an X-ray lens for shaping the beam.

摘要翻译： 本发明涉及X射线分析仪器（RX），更准确地说，一种用于提供通常高于4keV的高能X射线束用于X射线分析应用的装置。 该装置包括具有转向阳极的X射线管和用于使束成形的X射线透镜。

公开(公告)号：US20080257715A1

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：US11664343

申请日：2004-10-13

申请人： Peter Hoghoj ,  Paraskevi Ntova ,  Claude Montcalm ,  Sergio Rodrigues

发明人： Peter Hoghoj ,  Paraskevi Ntova ,  Claude Montcalm ,  Sergio Rodrigues

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/46 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/68

摘要： The invention relates to a dual Ion Beam Sputtering method for depositing onto a substrate (S) material generated by the sputtering of a target (121-123) by a sputtering ion beam (110), said method comprising the operation of an assistance ion beam (130) directed onto said substrate in order to assist the deposition of material, said method being characterized in that during the operation of said assistance beam said sputtering beam is also operated in association with said assistance beam, and during said operation of the sputtering beam in association with the assistance beam the sputtering beam crosses a desired part of the assistance beam in order to transport contaminants associated to said desired part of the assistance beam away from said substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于沉积到通过溅射离子束（110）溅射靶（121-123）而产生的衬底（S）上的双离子束溅射方法，所述方法包括辅助离子束 （130），以便辅助沉积材料，所述方法的特征在于，在所述辅助束的操作期间，所述溅射束还与所述辅助光束相关联地操作，并且在溅射束的所述操作期间 与辅助束相关联，溅射束与辅助光束的期望部分交叉，以便将与所述辅助光束的所需部分相关联的污染物输送离开所述衬底。