公开(公告)号：US20110127762A1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：US13055508

申请日：2009-08-04

申请人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim

发明人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim

IPC分类号： B42D15/00 ,  B32B38/10 ,  B32B38/06 ,  B32B37/02

CPC分类号： B42D25/47 ,  B42D25/21 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/351 ,  B42D25/355 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425 ,  B42D25/445 ,  B42D25/455 ,  B42D2035/08 ,  B42D2035/24 ,  B44C1/1704 ,  Y10T156/1039

摘要： The present invention relates to a method for producing a security element (1), to a security element (1) obtainable by the method according to the invention, to transfer materials having the security elements according to the invention, and to objects of value secured by the security elements according to the invention. The security element (1) according to the invention has at least two functional layers (12, 22), whereby each functional layer forms a motif and the motifs are either congruent, or one motif represents a photographic negative of the other motif. In the method according to the invention, the motif of one functional layer (12) is transferred into the other functional layer (22) with the help of an adhesive layer (30). In so doing, there is reproduced in the adhesive layer an exact image of the motif of the first functional layer, and said image of the motif in the adhesive layer is in turn employed for reproducing an exact image of said motif or of its photographic negative in the second functional layer. The transfer of the motif from one functional layer into the other is achieved by the adhesive having areas of varying adhesive strength, induced by irradiation through the first functional layer, and bonding to the second functional layer only in the strongly adhesive areas. The non-bonded areas of the functional layer are removed.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产安全元件（1）的方法，通过根据本发明的方法可获得的安全元件（1），用于将具有根据本发明的安全元件的材料转移到具有价值的物体上 通过根据本发明的安全元件。 根据本发明的安全元件（1）具有至少两个功能层（12,22），由此每个功能层形成图案，并且图案是一致的，或者一个图案表示另一图案的照相底片。 在根据本发明的方法中，借助于粘合剂层（30）将一个功能层（12）的图案转移到另一功能层（22）中。 在这样做时，在粘合剂层中再现了第一功能层的图案的精确图像，并且粘合剂层中的图案的图像又被用于再现所述图案的精确图像或其照相底片 在第二功能层。 通过具有通过第一功能层的照射诱导的具有变化的粘合强度的区域的粘合剂和仅在强粘合区域中与第二功能层接合来实现将图案从一个功能层转移到另一个功能层中的粘合剂。 除去功能层的非粘合区域。

公开(公告)号：US20110115212A1

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：US13055515

申请日：2009-08-04

申请人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim ,  Theodor Burchard

发明人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim ,  Theodor Burchard

IPC分类号： B44F1/12 ,  B44C1/00 ,  B44C1/17 ,  B32B37/02 ,  B32B37/14 ,  B32B38/10 ,  B42D15/10

CPC分类号： B42D25/43 ,  B32B2425/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/445 ,  B42D25/47 ,  B42D2033/18 ,  B42D2035/16 ,  B42D2035/36 ,  Y10T156/17

摘要： The present invention relates to a method for producing a security element (1), to a security element (1) obtainable by the method according to the invention, to transfer materials having the security elements according to the invention, and to objects of value secured with the security elements according to the invention. The security element (1) according to the invention has two functional layers (12, 22) which are bonded together by means of a resist layer (30). The resist layer (30) has a pattern which is employed to generate a congruent pattern in the first functional layer (12). Then the pattern of the resist layer (30), and thus also of the first functional layer (12), is exactly reproduced in the second functional layer (22). This is achieved by bonding the second functional layer (22) in the form of the pattern of the resist layer (30). The non-bonded areas of the second functional layer (22) are removed, thereby forming negative writing.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产安全元件（1）的方法，通过根据本发明的方法可获得的安全元件（1），用于将具有根据本发明的安全元件的材料转移到具有价值的物体上 与根据本发明的安全元件。 根据本发明的安全元件（1）具有通过抗蚀剂层（30）结合在一起的两个功能层（12,22）。 抗蚀剂层（30）具有用于在第一功能层（12）中产生全等图案的图案。 那么抗蚀剂层（30）的图案也因此也是第一功能层（12）的图案在第二功能层（22）中精确地再现。 这通过以抗蚀剂层（30）的图案的形式接合第二功能层（22）来实现。 除去第二功能层（22）的非接合区域，从而形成负写入。

公开(公告)号：US09248689B2

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US13055515

申请日：2009-08-04

申请人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim ,  Theodor Burchard

发明人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim ,  Theodor Burchard

IPC分类号： B42D25/43 ,  B42D25/324 ,  B42D25/445 ,  B42D25/29 ,  B42D25/328 ,  B42D25/47

CPC分类号： B42D25/43 ,  B32B2425/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/445 ,  B42D25/47 ,  B42D2033/18 ,  B42D2035/16 ,  B42D2035/36 ,  Y10T156/17

摘要： The present invention relates to a method for producing a security element (1), to a security element (1) obtainable by the method according to the invention, to transfer materials having the security elements according to the invention, and to objects of value secured with the security elements according to the invention. The security element (1) according to the invention has two functional layers (12, 22) which are bonded together by means of a resist layer (30). The resist layer (30) has a pattern which is employed to generate a congruent pattern in the first functional layer (12). Then the pattern of the resist layer (30), and thus also of the first functional layer (12), is exactly reproduced in the second functional layer (22). This is achieved by bonding the second functional layer (22) in the form of the pattern of the resist layer (30). The non-bonded areas of the second functional layer (22) are removed, thereby forming negative writing.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产安全元件（1）的方法，通过根据本发明的方法可获得的安全元件（1），用于将具有根据本发明的安全元件的材料转移到具有价值的物体上 与根据本发明的安全元件。 根据本发明的安全元件（1）具有通过抗蚀剂层（30）结合在一起的两个功能层（12,22）。 抗蚀剂层（30）具有用于在第一功能层（12）中产生全等图案的图案。 那么抗蚀剂层（30）的图案也因此也是第一功能层（12）的图案在第二功能层（22）中精确地再现。 这通过以抗蚀剂层（30）的图案的形式接合第二功能层（22）来实现。 除去第二功能层（22）的非接合区域，从而形成负写入。

公开(公告)号：US08685488B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US12809909

申请日：2008-12-17

申请人： Winfried Hoffmuller ,  Theodor Burchard ,  Marius Dichtl ,  Patrick Renner ,  Michael Rahm ,  Manfred Heim ,  Lars Hoffmann ,  Manfred Dotzler ,  Ralf Liebler ,  Mario Keller

发明人： Winfried Hoffmuller ,  Theodor Burchard ,  Marius Dichtl ,  Patrick Renner ,  Michael Rahm ,  Manfred Heim ,  Lars Hoffmann ,  Manfred Dotzler ,  Ralf Liebler ,  Mario Keller

IPC分类号： B41M3/14 ,  B44F1/12

CPC分类号： B42D25/324 ,  B41M1/04 ,  B41M1/10 ,  B41M3/14 ,  B42D25/342 ,  B42D25/47 ,  B42D2035/20 ,  B42D2035/44 ,  Y10T428/24479

摘要： The present invention relates to a method for producing a micropattern on a substrate (22), in which a substrate (22) is provided with a relief pattern (26, 28) that exhibits elevations (26) and depressions (28), and in which the elevations (26) and/or depressions (26) are arranged in the form of the desired micropattern, and with a printing tool, an imprint material (30; 34) is transferred to the relief pattern (26, 28), the viscosity of the imprint material (30; 34) being chosen such that the imprint material (30; 34) is selectively transferred either substantially only onto the elevations (26) or substantially only into the depressions (28) of the relief pattern.

摘要翻译： 本发明涉及一种在基板（22）上制造微图案的方法，其中基板（22）设置有具有高度（26）和凹陷（28）的浮雕图案（26,28），并且 其中高度（26）和/或凹陷（26）以期望的微图案的形式布置，并且利用印刷工具，压印材料（30; 34）被传送到浮雕图案（26,28）， 压印材料（30; 34）的粘度被选择为使得压印材料（30; 34）基本上仅选择性地转移到高度（26）上或基本上仅转移到浮雕图案的凹陷（28）中。

公开(公告)号：US09238383B2

公开(公告)日：2016-01-19

申请号：US13055508

申请日：2009-08-04

申请人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim

发明人： Winfried Hoffmuller ,  Patrick Renner ,  Manfred Heim

IPC分类号： B44C1/17 ,  B42D25/324 ,  B42D25/455 ,  B42D25/355 ,  B42D25/328 ,  B42D25/47

CPC分类号： B42D25/47 ,  B42D25/21 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/351 ,  B42D25/355 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425 ,  B42D25/445 ,  B42D25/455 ,  B42D2035/08 ,  B42D2035/24 ,  B44C1/1704 ,  Y10T156/1039

摘要： The present invention relates to a method for producing a security element (1), to a security element (1) obtainable by the method according to the invention, to transfer materials having the security elements according to the invention, and to objects of value secured by the security elements according to the invention. The security element (1) according to the invention has at least two functional layers (12, 22), whereby each functional layer forms a motif and the motifs are either congruent, or one motif represents a photographic negative of the other motif. In the method according to the invention, the motif of one functional layer (12) is transferred into the other functional layer (22) with the help of an adhesive layer (30). In so doing, there is reproduced in the adhesive layer an exact image of the motif of the first functional layer, and said image of the motif in the adhesive layer is in turn employed for reproducing an exact image of said motif or of its photographic negative in the second functional layer. The transfer of the motif from one functional layer into the other is achieved by the adhesive having areas of varying adhesive strength, induced by irradiation through the first functional layer, and bonding to the second functional layer only in the strongly adhesive areas. The non-bonded areas of the functional layer are removed.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产安全元件（1）的方法，通过根据本发明的方法可获得的安全元件（1），用于将具有根据本发明的安全元件的材料转移到具有价值的物体上 通过根据本发明的安全元件。 根据本发明的安全元件（1）具有至少两个功能层（12,22），由此每个功能层形成图案，并且图案是一致的，或者一个图案表示另一图案的照相底片。 在根据本发明的方法中，借助于粘合剂层（30）将一个功能层（12）的图案转移到另一功能层（22）中。 在这样做时，在粘合剂层中再现了第一功能层的图案的精确图像，并且粘合剂层中的图案的图像又被用于再现所述图案的精确图像或其照相底片 在第二功能层。 通过具有通过第一功能层的照射诱导的具有变化的粘合强度的区域的粘合剂和仅在强粘合区域中与第二功能层接合来实现将图案从一个功能层转移到另一个功能层中的粘合剂。 除去功能层的非粘合区域。

公开(公告)号：US20110045248A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12809909

申请日：2008-12-17

申请人： Winfried HOFFMULLER ,  Theodor BURCHARD ,  Marius DICHTL ,  Patrick RENNER ,  Michael RAHM ,  Manfred HEIM ,  Lars HOFFMANN ,  Manfred DOTZLER ,  Ralf LIEBLER ,  Mario KELLER

发明人： Winfried HOFFMULLER ,  Theodor BURCHARD ,  Marius DICHTL ,  Patrick RENNER ,  Michael RAHM ,  Manfred HEIM ,  Lars HOFFMANN ,  Manfred DOTZLER ,  Ralf LIEBLER ,  Mario KELLER

IPC分类号： B32B3/00 ,  B41F33/00 ,  B41F17/00

CPC分类号： B42D25/324 ,  B41M1/04 ,  B41M1/10 ,  B41M3/14 ,  B42D25/342 ,  B42D25/47 ,  B42D2035/20 ,  B42D2035/44 ,  Y10T428/24479

摘要： The present invention relates to a method for producing a micropattern on a substrate (22), in which a substrate (22) is provided with a relief pattern (26, 28) that exhibits elevations (26) and depressions (28), and in which the elevations (26) and/or depressions (26) are arranged in the form of the desired micropattern, and with a printing tool, an imprint material (30; 34) is transferred to the relief pattern (26, 28), the viscosity of the imprint material (30; 34) being chosen such that the imprint material (30; 34) is selectively transferred either substantially only onto the elevations (26) or substantially only into the depressions (28) of the relief pattern.

摘要翻译： 本发明涉及一种在基板（22）上制造微图案的方法，其中基板（22）设置有具有高度（26）和凹陷（28）的浮雕图案（26,28），并且 其中高度（26）和/或凹陷（26）以期望的微图案的形式布置，并且利用印刷工具，压印材料（30; 34）被传送到浮雕图案（26,28）， 压印材料（30; 34）的粘度被选择为使得压印材料（30; 34）基本上仅选择性地转移到高度（26）上或基本上仅转移到浮雕图案的凹陷（28）中。