公开(公告)号：US06537380B2

公开(公告)日：2003-03-25

申请号：US10041924

申请日：2002-01-07

申请人： Lawrence A. Zazerra ,  Frederick E. Behr ,  Michael J. Parent ,  Paul E. Rajtar

发明人： Lawrence A. Zazerra ,  Frederick E. Behr ,  Michael J. Parent ,  Paul E. Rajtar

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： C11D3/3947 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5018 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02052 ,  Y10S134/902

摘要： A homogeneous non-aqueous composition containing a fluorinated solvent, ozone, and optionally a co-solvent and the use of these compositions for cleaning and oxidizing substrates is described.

公开(公告)号：US06492309B1

公开(公告)日：2002-12-10

申请号：US09698690

申请日：2000-10-27

申请人： Frederick E. Behr ,  Paul E. Rajtar ,  Lawrence A. Zazzera ,  Michael J. Parent ,  Silva K. Theiss ,  Billy L. Weaver

发明人： Frederick E. Behr ,  Paul E. Rajtar ,  Lawrence A. Zazzera ,  Michael J. Parent ,  Silva K. Theiss ,  Billy L. Weaver

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/5018 ,  H01L21/02063

摘要： A homogeneous compositions containing a fluorinated solvent, hydrogen fluoride, and an optional co-solvent, and the use of these compositions for etching of microelectromechanical devices is described.

摘要翻译： 描述了包含氟化溶剂，氟化氢和任选的共溶剂的均匀组合物，以及这些组合物用于蚀刻微机电装置的用途。

公开(公告)号：US06372700B1

公开(公告)日：2002-04-16

申请号：US09540590

申请日：2000-03-31

申请人： Lawrence A. Zazerra ,  Frederick E. Behr ,  Michael J. Parent ,  Paul E. Rajtar

发明人： Lawrence A. Zazerra ,  Frederick E. Behr ,  Michael J. Parent ,  Paul E. Rajtar

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： C11D3/3947 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5018 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02052 ,  Y10S134/902

摘要： A homogeneous non-aqueous compositions containing a fluorinated solvent, ozone, and optionally a co-solvent and the use of these compositions for cleaning and oxidizing substrates is described.

摘要翻译： 描述了含有氟化溶剂，臭氧和任选的助溶剂的均匀的非水性组合物以及这些组合物用于清洗和氧化底物的用途。

公开(公告)号：US07071154B2

公开(公告)日：2006-07-04

申请号：US10739231

申请日：2003-12-18

申请人： Paul E. Rajtar ,  John G. Owens

发明人： Paul E. Rajtar ,  John G. Owens

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： C07C43/12 ,  C10M105/52 ,  C10M105/54 ,  C10M2211/0225 ,  C10M2211/0245 ,  C10M2211/0425 ,  C10N2240/40 ,  C11D7/5063 ,  C11D7/5086 ,  C11D7/5095 ,  C11D11/0011

摘要： Azeotrope-like compositions comprising C2F5CF(OCH3)CF(CF3)2 (1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3-methoxy-4-trifluoromethyl-pentane) and an organic solvent, and uses thereof, are described.

摘要翻译： 包含C 2 F 5 CF 3（CF 3 CH 3）CF（CF 3 N）的类共沸组合物 2,1-（1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-4-三氟甲基 - 戊烷）和有机溶剂及其用途。

公开(公告)号：US06310018B1

公开(公告)日：2001-10-30

申请号：US09541453

申请日：2000-03-31

申请人： Frederick E. Behr ,  Lawrence A. Zazzera ,  Paul E. Rajtar ,  Michael J. Parent

发明人： Frederick E. Behr ,  Lawrence A. Zazzera ,  Paul E. Rajtar ,  Michael J. Parent

IPC分类号： C09K1300

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/5018 ,  H01L21/02063

摘要： A homogeneous compositions containing a fluorinated solvent, hydrogen fluoride, and a co-solvent, and the use of these compositions for cleaning and etching of substrates is described.

摘要翻译： 描述了含有氟化溶剂，氟化氢和共溶剂的均匀组合物，以及这些组合物用于清洗和蚀刻基材的用途。