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公开(公告)号:US5198517A
公开(公告)日:1993-03-30
申请号:US740732
申请日:1991-08-06
申请人: Ralph B. Neilsen , Lan B. Thai , Hwei-ling Yau
发明人: Ralph B. Neilsen , Lan B. Thai , Hwei-ling Yau
IPC分类号: G03C1/34 , C07C69/90 , G03C1/053 , G03C7/392 , G03C7/396
CPC分类号: G03C1/053 , C07C69/90 , G03C7/396
摘要: Reducing agents for oxidized developing agents and light sensitive elements containing the reducing agents wherein the reducing agents comprise a polymer having gallic acid or gallic acid derivative moieties.
摘要翻译: 用于氧化显影剂和含有还原剂的光敏元件的还原剂,其中还原剂包含具有没食子酸或没食子酸衍生物部分的聚合物。