利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

9 条记录 (耗时 0.01 秒)

    Method of adjusting the hardness of a titanium metal
    1.
    发明授权
    Method of adjusting the hardness of a titanium metal 失效
    调整钛金属硬度的方法

    公开(公告)号：US4082628A

    公开(公告)日：1978-04-04

    申请号：US690058

    申请日：1976-05-26

    申请人： Shin-ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    发明人： Shin-ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    IPC分类号： C25D3/66 ,  C25C3/26 ,  C25C3/28

    CPC分类号： C25C3/28

    摘要： In the electrodeposition of titanium metal from an electrolyte containing one or more dissolved or fused titanium chlorides and other dissolved or fused chloride salts, such as, MgCl.sub.2,CaCl.sub.2,NaCl, and the like; the hardness of the electrodeposited titanium is adjusted by adding to the electrolyte one or more oxides, such as titanium oxide and oxides of alkaline and alkaline-earth metals, and/or one or more fluorides of alkaline and alkaline-earth metals.

    摘要翻译： 调整钛金属硬度的方法在由含有一种或多种溶解或熔融的氯化钛和其它溶解或熔融氯化物盐（例如MgCl 2，CaCl 2，NaCl等）的电解质的电解沉积钛金属中，硬度 通过向电解质中添加一种或多种氧化物，如碱金属和碱土金属的氧化物和氧化物，和/或一种或多种碱金属和碱土金属的氟化物来调节电沉积钛。

    Electrodeposition process
    2.
    发明授权
    Electrodeposition process 失效
    电沉积工艺

    公开(公告)号：US4016052A

    公开(公告)日：1977-04-05

    申请号：US632808

    申请日：1975-11-17

    申请人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Kenji Ogisu ,  Hiroji Kawai

    发明人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Kenji Ogisu ,  Hiroji Kawai

    IPC分类号： C25C3/00 ,  C25C3/28

    CPC分类号： C25C3/00 ,  C25C3/28

    摘要： In an electrodeposition process using a fused-salt electrolyte in which a desired metal or alloy deposited by electrolysis can be dissolved, and/or using a fused-salt electrolyte from which a highly viscous material is produced on the surface of an electrodeposited metal or alloy upon electrodeposition of the desired metal or alloy, solid particles are dispersed in the aforesaid electrolyte in order to obtain a flat surface of the desired electrodeposited metal or alloy, whereby continuous electrodeposition can be carried out.

    摘要翻译： 在使用熔解盐电解质的电沉积工艺中，其中可以溶解通过电解沉积的所需金属或合金，和/或使用在电沉积金属或合金的表面上产生高粘度材料的熔融盐电解质 在电沉积所需的金属或合金时，将固体颗粒分散在上述电解质中以获得所需电沉积金属或合金的平坦表面，由此可以进行连续的电沉积。

    Method of adjusting a fused salt electrolytic bath
    3.
    发明授权
    Method of adjusting a fused salt electrolytic bath 失效
    调整熔盐电解槽的方法

    公开(公告)号：US4113582A

    公开(公告)日：1978-09-12

    申请号：US802487

    申请日：1977-06-01

    申请人： Shin-ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    发明人： Shin-ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    IPC分类号： C25C3/26 ,  C25C3/00 ,  C25C3/28 ,  C25D3/66

    CPC分类号： C25C3/28 ,  C25C3/00 ,  C25D3/66

    摘要： A high valency salt, such as TiCl.sub.4 is reduced to a lower valency salt, such as TiCl.sub.2 and/or TiCl.sub.3 within a fused salt electrolytic bath via electrolysis so that an improved electrodeposition of a desired metal or alloy, such as Ti, occurs, from such adjusted bath. The process generally comprises adding a higher valency salt of a desired metal or alloy to a fused salt electrolytic bath, reducing the higher valency salt on a cathode electrode to a lower valency salt, removing the so-produced lower valency salt from the electrode surface and maintaining a predetermined amount of the lower valency salt within the electrolytic bath. Electrodeposition of a desired metal or alloy may then take place from such electrolytic bath containing a so-adjusted amount of the lower valency salt.

    摘要翻译： 通过电解将高价盐如TiCl 4还原成熔融盐电解槽内的较低价态的盐，例如TiCl 2和/或TiCl 3，以便发生所需金属或合金如Ti的电沉积，从 这样调整浴。 该方法通常包括向熔融盐电解浴中加入所需金属或合金的较高价盐，将阴极上的较高价盐还原成低价盐，从电极表面除去如此制备的较低价盐， 在电解浴中保持预定量的较低价盐。 然后可以从含有如此调节量的较低价盐的电解浴中进行所需金属或合金的电沉积。

    Electrodeposition process
    7.
    发明授权
    Electrodeposition process 失效
    电沉积工艺

    公开(公告)号：US4113581A

    公开(公告)日：1978-09-12

    申请号：US801640

    申请日：1977-05-31

    申请人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    发明人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Tatsuo Kikuchi ,  Kenji Ogisu ,  Toshiro Tsumori

    IPC分类号： C25D15/02 ,  C25C3/00 ,  C25C3/28 ,  C25C5/04 ,  C25D3/66

    CPC分类号： C25C5/04 ,  C25D3/66

    摘要： An electroposition process wherein solid metallic particles are produced in a fused salt electrolytic bath and dispersed therein to electrodeposit a metal or alloy thereof on a cathode so that the surface of the deposit is maintained smooth and flat. In order to produce particles of a desired metal or alloy, an auxiliary electrolytic means may be provided within an electrolytic cell so that such particles are generated in situ within the fused bath of such cell.

    摘要翻译： 一种电镀方法，其中固体金属颗粒在熔盐电解浴中产生并分散在其中以将金属或其合金电沉积在阴极上，使得沉积物的表面保持平滑和平坦。 为了产生期望的金属或合金的颗粒，可以在电解池内提供辅助电解装置，使得这种颗粒在该电池的熔池内就地产生。

    Electrodepositing method
    8.
    发明授权
    Electrodepositing method 失效
    电沉积法

    公开(公告)号：US4049507A

    公开(公告)日：1977-09-20

    申请号：US613513

    申请日：1975-09-15

    申请人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Kenji Ogisu ,  Tadao Fujita

    发明人： Shin-Ichi Tokumoto ,  Eiji Tanaka ,  Kenji Ogisu ,  Tadao Fujita

    IPC分类号： C25D3/66 ,  C25D5/00 ,  C25D5/04 ,  C25D5/18

    CPC分类号： C25D5/18 ,  C25D5/04 ,  Y10S204/09

    摘要： An electrodeposition method of electrodepositing a material with a flat and smooth surface, in which an electrolytic condition such as a speed of movement of a cathode relative to an electrolyte, an electrolytic current density, a duty ratio of an interrupted electrolytic current or an interruption frequency of an electrolytic current is changed periodically from a normal value to another value and back again.

    摘要翻译： 电沉积方法，电沉积具有平坦光滑表面的材料，其中电解条件例如阴极相对于电解质的运动速度，电解电流密度，电解电流中断的占空比或中断频率 的电解电流从正常值周期性地改变到另一个值并再次返回。