公开(公告)号：US20050079649A1

公开(公告)日：2005-04-14

申请号：US10709054

申请日：2004-04-09

申请人： Shao-Kang Chang ,  Graham Chuang ,  Yi-Nan Chen

发明人： Shao-Kang Chang ,  Graham Chuang ,  Yi-Nan Chen

IPC分类号： C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  G01N1/32 ,  H01L21/00 ,  H01L21/66

CPC分类号： C09K13/08 ,  G01N1/32 ,  H01J2237/28

摘要： An etchant composition for SEM image enhancement of P-N junction contrast. The composition comprises an NTC-1 solution mixed with an NTC-2 solution at a specific volumetric ratio. The NTC-1 solution is prepared by mixing solution “A” comprising organic acid, HF, and nitric acid with a 49% HF solution. The NTC-2 solution comprises metal ions and a strong oxidant. After the preparation of the NTC-1 and NTC-2 solutions, they are mixed together at specific volumetric ratio. Before carrying out an SEM analysis, the SEM specimen is dipped into the etchant composition.

摘要翻译： 用于P-N结对比度的SEM图像增强的蚀刻剂组合物。 该组合物包含以特定体积比与NTC-2溶液混合的NTC-1溶液。 通过将包含有机酸HF和硝酸的溶液“A”与49％HF溶液混合来制备NTC-1溶液。 NTC-2溶液包含金属离子和强氧化剂。 在制备NTC-1和NTC-2溶液后，将它们以特定的体积比混合在一起。 在进行SEM分析之前，将SEM样品浸入蚀刻剂组合物中。