公开(公告)号：US20120003586A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。

公开(公告)号：US20110269071A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US13095023

申请日：2011-04-27

申请人： Toru FUJIMORI ,  Shinki Yamada ,  Takamitsu Tomiga

发明人： Toru FUJIMORI ,  Shinki Yamada ,  Takamitsu Tomiga

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the first invention includes (A1) an acid-decomposable resin, the resin containing three kinds of repeating units each having a specific structure, (B) a photo-acid generator and (C1) a 2-phenylbenzimidazole-based basic compound; an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the second invention includes (A2) an acid-decomposable resin, (B) a photo-acid generator and (C2) 2-heteryl benzimidazole-based basic compound; a chemical amplification resist composition of the third invention includes (A3) an acid-decomposable resin, (B) a photo-acid generator and (C3) a benzimidazole-based basic compound having a sulfur atom-containing specific structure; and a resist film and a pattern forming method each use such a composition.

摘要翻译： 第一发明的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包括（A1）酸分解性树脂，含有三种具有特定结构的重复单元的树脂，（B）光酸发生剂和（C1 ）基于2-苯基苯并咪唑的碱性化合物; 第二发明的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包括（A2）酸分解性树脂，（B）光酸产生剂和（C2）2-芳基苯并咪唑类碱性化合物; 第三发明的化学增幅抗蚀剂组合物包括（A3）酸分解性树脂，（B）光酸产生剂和（C3）具有含硫原子的特定结构的苯并咪唑类碱性化合物; 和抗蚀剂膜和图案形成方法均使用这种组合物。

公开(公告)号：US08541161B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US13257069

申请日：2010-03-23

申请人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

发明人： Kana Fujii ,  Shuji Hirano ,  Shinki Yamada ,  Toru Fujimori

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F220/20 ,  C08F2220/1825 ,  C08K5/375 ,  C08K5/41 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F2220/281 ,  C08F220/30

摘要： Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1 and R11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R12 represents a phenyl group which may have a substituent.

摘要翻译： 提供光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 和图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，含有式（I）表示的重复单元的树脂，表示的重复单元 通过式（II）表示的重复单元和式（III）表示的重复单元，和（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生含氟原子的酸的化合物：其中R 1和R 11各自独立地表示氢 原子或可以具有取代基的烷基，R12表示可以具有取代基的苯基。