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发明申请
Mask handling apparatus, lithographic projection apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby 审中-公开
标题翻译：掩模处理装置，光刻投影装置，装置制造方法以及由此制造的装置

公开(公告)号：US20020096647A1

公开(公告)日：2002-07-25

申请号：US09972204

申请日：2001-10-09

申请人： ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors , Vadim Yevgenyevich Banine , Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Henri Gerard Cato Werij , Hugo Matthieu Visser , Gerrit-Jan Heerens , Erik Leonardus Ham , Hans Meiling , Erik Roelof Loopstra , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： A61N005/00 , G21G005/00

CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70741 , G03F7/7085 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield means are fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。颗粒屏蔽装置固定到掩模支架而不是掩模。