公开(公告)号：US20020096647A1

公开(公告)日：2002-07-25

申请号：US09972204

申请日：2001-10-09

申请人： ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： A61N005/00 ,  G21G005/00

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield means are fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。 这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。 颗粒屏蔽装置固定到掩模支架而不是掩模。

公开(公告)号：US20020097385A1

公开(公告)日：2002-07-25

申请号：US09971769

申请日：2001-10-09

申请人： ASM Lithography B.V.

发明人： Jan Van Elp ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Hugo Matthieu Visser ,  Levinus Pieter Bakker

IPC分类号： G03B027/00 ,  G03F007/00 ,  G03B027/54

CPC分类号： G03F7/70575 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702

摘要： In a lithographic projection apparatus, a grating spectral filter is used to filter an EUV projection beam. The grating spectral filter is preferably a blazed, grazing incidence, reflective grating. Cooling channels may be provided in or on the rear of the grating spectral filter. The grating spectral filter may be formed of a material effectively invisible to the desired radiation.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，使用光栅光谱滤波器来过滤EUV投影光束。 光栅光谱滤波器优选地是闪耀的，掠入射的反射光栅。 冷却通道可以设置在光栅光谱滤波器的背面中或后面。 光栅光谱滤波器可以由对期望的辐射有效地不可见的材料形成。