公开(公告)号：US20030095240A1

公开(公告)日：2003-05-22

申请号：US09988830

申请日：2001-11-19

申请人： ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： Willem Van Schaik ,  Antonie Ellert Duisterwinkel ,  Bastiaan Matthias Mertens ,  Hans Meiling ,  Norbertus Benedictus Koster

IPC分类号： G03B027/52

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： Cleaning of optical components for use in a lithographic projection apparatus can be carried out by irradiating a space within the apparatus containing the optical component with UV or EUV radiation having a wavelength of less than 250 nm, in the presence of an oxygen-containing species selected from water, nitrogen oxide and oxygen-containing hydrocarbons. Generally, the space will be purged with an ozone-less purge gas which contains a small amount of the oxygen-containing species in addition to the usual purge gas composition. The technique can also be used in an evacuated space by introducing a low pressure of the oxygen-containing species into the space.

摘要翻译： 用于光刻投影装置的光学部件的清洁可以通过在选择的含氧物质的存在下，用波长小于250nm的UV或EUV辐射照射包含光学部件的装置内的空间来进行 来自水，氮氧化物和含氧烃。 通常，除了通常的吹扫气体组合物之外，空间将被含有少量含氧物质的无臭氧净化气体吹扫。 该技术也可以通过将含氧物质的低压引入空间而用于抽空空间。

公开(公告)号：US20020096647A1

公开(公告)日：2002-07-25

申请号：US09972204

申请日：2001-10-09

申请人： ASM LITHOGRAPHY B.V.

发明人： Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Henri Gerard Cato Werij ,  Hugo Matthieu Visser ,  Gerrit-Jan Heerens ,  Erik Leonardus Ham ,  Hans Meiling ,  Erik Roelof Loopstra ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders

IPC分类号： A61N005/00 ,  G21G005/00

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： In a lithographic projection apparatus, an object such as a mask is shielded from stray particles by a particle shield using electromagnetic fields. The fields may be a uniform electric field, a non-uniform electric field or an optical breeze. The particle shield means are fixed to the mask holder rather than the mask.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，通过使用电磁场的粒子屏蔽物将诸如掩模的物体与杂散颗粒屏蔽。 这些场可以是均匀的电场，不均匀的电场或光学微风。 颗粒屏蔽装置固定到掩模支架而不是掩模。