公开(公告)号：US06860723B2

公开(公告)日：2005-03-01

申请号：US10264404

申请日：2002-10-09

申请人： Ben-Shu Chen ,  Chao-Jung Chang ,  Jui-Cheng Lo ,  Chin-Hsin Peng ,  Chien-Kuo Lu

发明人： Ben-Shu Chen ,  Chao-Jung Chang ,  Jui-Cheng Lo ,  Chin-Hsin Peng ,  Chien-Kuo Lu

IPC分类号： F04B49/20 ,  F04B49/00

CPC分类号： F04B49/20 ,  F04B2205/09

摘要： A system for controlling and monitoring a rate of flow of a fluid, such as a CMP slurry, comprising a pump for pumping the slurry; a flow meter for monitoring the rate of flow of the slurry; and a controller operably connected to the flow meter and the pump. The controller receives signals from the flow meter indicating the rate of flow of the slurry and controls the operational speed of the pump responsive to the flow meter signals. A degasser equipped with a level sensor may be further provided in the system for removing gas bubbles from the slurry.

摘要翻译： 一种用于控制和监测诸如CMP浆料的流体流速的系统，包括用于泵送浆料的泵; 用于监测浆料流速的流量计; 以及可操作地连接到流量计和泵的控制器。 控制器从流量计接收指示泥浆流量的信号，并根据流量计信号控制泵的操作速度。 可以在系统中进一步设置装备有液位传感器的脱气机，以从浆料中除去气泡。

公开(公告)号：US06926584B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10267614

申请日：2002-10-09

申请人： Chao-Jung Chang ,  Ping-Hsu Chen ,  Chin-Hsin Peng ,  Jui-Cheng Lo ,  Chien-Kuo Lu ,  Chien-Ling Huang

发明人： Chao-Jung Chang ,  Ping-Hsu Chen ,  Chin-Hsin Peng ,  Jui-Cheng Lo ,  Chien-Kuo Lu ,  Chien-Ling Huang

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B57/02 ,  B24B49/00

CPC分类号： B24B37/04 ,  B24B57/02

摘要： A DMHC (dual mode hybrid control) system and method which facilitates enhanced control in the delivery of polishing slurry to a CMP (chemical mechanical polishing) apparatus. The DMHC comprises a linear table and a PID (proportional integrated differential) controller operably connected to a slurry pump provided in a slurry flow conduit which delivers the polishing slurry to the CMP apparatus. A bubble trap and a flowmeter provided in the slurry flow conduit downstream of the slurry pump are operably connected to the PID controller, and the CMP apparatus is located downstream of the flowmeter.

摘要翻译： 一种DMHC（双模式混合控制）系统和方法，其有助于增强抛光浆料输送到CMP（化学机械抛光）装置中的控制。 DMHC包括线性工作台和可操作地连接到浆料泵的PID（比例积分微分）控制器，所述浆料泵设置在将抛光浆料输送到CMP设备的浆料流动管道中。 设置在泥浆泵下游的泥浆流动管道中的气泡阱和流量计可操作地连接到PID控制器，并且CMP设备位于流量计的下游。