公开(公告)号：US5962192A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：US873304

申请日：1997-06-11

申请人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

发明人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

IPC分类号： G03F7/004 ,  B41C1/05 ,  B41C1/055 ,  B41C1/10 ,  C07C247/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  H05K3/06

CPC分类号： G03F7/008 ,  B41C1/1008 ,  C07C247/18 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/24 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

摘要： Printing plates having a photoresist layer thereon that can be exposed by a computer controller laser have improved sensitivity and do not require a photomask step. We have found photoresists that include a film forming polymer, an organo azide and a photosensitive dye that absorbs light at the frequency of the patterning laser and converts it to heat energy. The heat energy in turn elevates the temperature of the organo azide above its dissociation temperature, destroying the azide in areas exposed to the light source, and solubilizing those regions.Flood exposure with ultraviolet light hardens the resist and can be performed prior to or after pattern exposure.

摘要翻译： 其上具有可由计算机控制器激光器曝光的光致抗蚀剂层的印刷板具有改进的灵敏度，并且不需要光掩模步骤。 我们已经发现光致抗蚀剂包括成膜聚合物，有机叠氮化物和感光染料，其以图案化激光的频率吸收光并将其转化为热能。 热能又将有机叠氮化物的温度升高到其解离温度以上，破坏暴露于光源的区域中的叠氮化物，并溶解这些区域。 用紫外线进行曝光，使抗蚀剂变硬，并可以在图案曝光之前或之后进行。

公开(公告)号：US6037085A

公开(公告)日：2000-03-14

申请号：US666169

申请日：1996-06-19

申请人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

发明人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

IPC分类号： B41C1/10 ,  C07C247/18 ,  G03F7/008 ,  B41N1/04 ,  G03C1/77

CPC分类号： C07C247/18 ,  B41C1/1008 ,  G03F7/008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/24

摘要： Printing plates having a photoresist layer thereon that can be exposed by a computer controller laser have improved sensitivity and do not require a photomask step. We have found photoresists that include a film forming polymer, an organo azide and a photosensitive dye that absorbs light at the frequency of the patterning laser and converts it to heat energy. The heat energy in turn elevates the temperature of the organo azide above its dissociation temperature, destroying the azide in areas exposed to the light source, and solubilizing those regions. A post pattern exposure flood exposure with ultraviolet light hardens the unexposed resist, improving its resistance to etch solvents.

摘要翻译： 其上具有可由计算机控制器激光器曝光的光致抗蚀剂层的印刷板具有改进的灵敏度，并且不需要光掩模步骤。 我们已经发现光致抗蚀剂包括成膜聚合物，有机叠氮化物和感光染料，其以图案化激光的频率吸收光并将其转化为热能。 热能又将有机叠氮化物的温度升高到其解离温度以上，破坏暴露于光源的区域中的叠氮化物，并溶解这些区域。 具有紫外线的柱状曝光泛滥曝光使未曝光的抗蚀剂变硬，提高其对蚀刻溶剂的抵抗力。