公开(公告)号：US20150343413A1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：US14729976

申请日：2015-06-03

申请人： The Regents of the University of California

发明人： Matthew B. Francis ,  Amy A. Twite ,  Kareem El Muslemany

IPC分类号： B01J19/12

CPC分类号： B01J19/123 ,  B01J2219/0881 ,  B01J2219/1203 ,  G03F7/008 ,  G03F7/0125 ,  G03F7/0755

摘要： The disclosure relates to methods of photopatterning molecules directly on a surface by photochemical means.

摘要翻译： 本公开涉及通过光化学方法直接在表面上对分子进行光图案化的方法。

公开(公告)号：US08530269B2

公开(公告)日：2013-09-10

申请号：US10556841

申请日：2004-05-12

申请人： Lay-Lay Chua ,  Peter Kian-Hoon Ho ,  Richard H. Friend

发明人： Lay-Lay Chua ,  Peter Kian-Hoon Ho ,  Richard H. Friend

IPC分类号： H01L51/40

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C247/16 ,  C07C311/37 ,  G03C1/695 ,  G03F7/008 ,  G03F7/012 ,  H01L51/0002 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0038 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/052 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

摘要： A method of forming a polymer device including the steps (i) of depositing on a substrate a solution containing a polymer or oligomer and a crosslinking moiety, to form a layer, and, (ii) curing the layer formed in step (i) under conditions to form an insoluble crosslinked polymer, wherein the crosslinking moiety is present in step (i) in an amount in the range of from 0.05 mol % to 5 mol % based on the total number of moles or repeat units of the polymer or oligomer and the crosslinking moiety in the solution.

摘要翻译： 一种形成聚合物装置的方法，包括以下步骤：（i）在基底上沉积含有聚合物或低聚物和交联部分的溶液以形成层，和（ii）固化步骤（i）中形成的层， 形成不溶性交联聚合物的条件，其中所述交联部分以基于所述聚合物或低聚物的总摩尔数或重复单元的0.05摩尔％至5摩尔％的量存在于步骤（i）中，以及 溶液中的交联部分。

公开(公告)号：US06861456B2

公开(公告)日：2005-03-01

申请号：US10400844

申请日：2003-03-27

申请人： Toru Shibuya ,  Masanori Kurihara ,  Mineko Takeda ,  Kazuo Yamada

发明人： Toru Shibuya ,  Masanori Kurihara ,  Mineko Takeda ,  Kazuo Yamada

IPC分类号： C07C247/18 ,  C07D213/40 ,  C07D213/56 ,  C07D233/61 ,  C08F2/46 ,  C08F8/00 ,  C08F8/30 ,  G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/012 ,  C07C247/00

CPC分类号： G03F7/012 ,  C07C247/18 ,  C08F8/30 ,  C08F8/48 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/008 ,  C08F16/06

摘要： The present invention provides a novel photosensitive compound having an azido group suitable for exposure to light of a short wavelength; a photosensitive resin containing the photosensitive compound; and a photosensitive composition containing the photosensitive compound or photosensitive resin. The photosensitive compound containing a photosensitive unit represented by formula (1): wherein R is selected from among the following groups, R: X is selected from among the following groups, X: and each of Y and Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, an acetal-group-containing alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a substituent containing a base-forming nitrogen atom, wherein at least one of R and X contains an azido group.

摘要翻译： 本发明提供了具有适合暴露于短波长的光的叠氮基的新型光敏化合物; 含有感光性化合物的感光性树脂; 和含有感光性化合物或感光性树脂的感光性组合物。 含有式（1）表示的光敏单元的光敏化合物：其中R选自下列基团，R：X选自下列基团X：Y和Z各自表示氢原子，烷基 基团，含缩醛基的烷基，芳基，芳烷基或含有形成碱的氮原子的取代基，其中R和X中的至少一个含有叠氮基。

公开(公告)号：US20040242023A1

公开(公告)日：2004-12-02

申请号：US10769423

申请日：2004-01-30

申请人： State Board of Higher Education on Behalf of Portland State University

发明人： Mingdi Yan ,  Michele A. Bartlett

IPC分类号： H01L021/31

CPC分类号： C40B60/14 ,  B01J2219/00432 ,  B01J2219/00443 ,  B01J2219/00531 ,  B01J2219/00585 ,  B01J2219/00596 ,  B01J2219/00605 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00619 ,  B01J2219/00626 ,  B01J2219/0063 ,  B01J2219/00637 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/00711 ,  B01J2219/00722 ,  B01J2219/00725 ,  B82Y30/00 ,  C40B40/10 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/008 ,  G03F7/012 ,  G03F7/11

摘要： Methods of adhering polymeric materials to a substrate, either directly or through linker molecules, are disclosed. Structures, for example, microstructures, including microwells and arrays of microwells, may be readily formed using the methods. In some embodiments, microstructures formed completely from polymeric materials are provided, making it possible to tailor the chemical and physical properties of the microstructures. For example, microwells having a bottom comprising a polar polymeric material and well sides/top comprising a non-polar polymeric material are provided. Biochemical reagents may be easily delivered to such nullsmart wellsnull because the intrinsic attraction of the well bottom for the reagents and the intrinsic repulsion between the well sides/top combine to direct the reagents to the wells.

摘要翻译： 公开了将聚合物材料直接或通过连接分子粘附到基底上的方法。 可以使用这些方法容易地形成结构，例如微结构，包括微孔和微孔阵列。 在一些实施方案中，提供了由聚合材料完全形成的微结构，使得可以调整微结构的化学和物理性能。 例如，提供具有包含极性聚合物材料的底部的微孔和包含非极性聚合物材料的阱侧/顶部。 生物化学试剂可以很容易地传递到这种“智能井”，因为井底对于试剂的内在吸引力和阱侧/顶部之间的固有排斥结合起来将试剂引导到井。

公开(公告)号：US5962192A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：US873304

申请日：1997-06-11

申请人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

发明人： Bruce Holman, III ,  Jeffrey G. Zaloom ,  Peiguang Zhou ,  Larry Sharkozy ,  Merlin L. Mulvey

IPC分类号： G03F7/004 ,  B41C1/05 ,  B41C1/055 ,  B41C1/10 ,  C07C247/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  H05K3/06

CPC分类号： G03F7/008 ,  B41C1/1008 ,  C07C247/18 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/24 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

摘要： Printing plates having a photoresist layer thereon that can be exposed by a computer controller laser have improved sensitivity and do not require a photomask step. We have found photoresists that include a film forming polymer, an organo azide and a photosensitive dye that absorbs light at the frequency of the patterning laser and converts it to heat energy. The heat energy in turn elevates the temperature of the organo azide above its dissociation temperature, destroying the azide in areas exposed to the light source, and solubilizing those regions.Flood exposure with ultraviolet light hardens the resist and can be performed prior to or after pattern exposure.

摘要翻译： 其上具有可由计算机控制器激光器曝光的光致抗蚀剂层的印刷板具有改进的灵敏度，并且不需要光掩模步骤。 我们已经发现光致抗蚀剂包括成膜聚合物，有机叠氮化物和感光染料，其以图案化激光的频率吸收光并将其转化为热能。 热能又将有机叠氮化物的温度升高到其解离温度以上，破坏暴露于光源的区域中的叠氮化物，并溶解这些区域。 用紫外线进行曝光，使抗蚀剂变硬，并可以在图案曝光之前或之后进行。

公开(公告)号：US5264318A

公开(公告)日：1993-11-23

申请号：US815614

申请日：1992-01-07

申请人： Norio Yabe ,  Kuniaki Monden ,  Hisashi Mino

发明人： Norio Yabe ,  Kuniaki Monden ,  Hisashi Mino

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/038 ,  G03F7/021 ,  G03F1/52 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/008 ,  G03F7/038

摘要： A positive type photosensitive composition developable with water or warm water alone of water-soluble photocrosslinking agent, water-soluble resin and synthetic resin emulsion and further a coloring agent, if necessary.

摘要翻译： 如果需要，可以用水溶性光交联剂，水溶性树脂和合成树脂乳液单独用水或温水显影的正型光敏组合物。

公开(公告)号：US5202227A

公开(公告)日：1993-04-13

申请号：US531596

申请日：1990-06-01

申请人： Takehisa Matsuda ,  Kazuhiko Inoue ,  Nobutaka Tani

发明人： Takehisa Matsuda ,  Kazuhiko Inoue ,  Nobutaka Tani

IPC分类号： C12M3/04 ,  C12N5/00 ,  C12N5/071 ,  G03F7/00 ,  G03F7/008

CPC分类号： G03F7/008 ,  C12N5/0068 ,  C12N5/069 ,  G03F7/00 ,  C12N2533/30 ,  C12N2533/52 ,  C12N2535/10

摘要： A device for controlling cell arrangement having a pattern composed of a cell adhesive surface and a cell non-adhesive surface, which has a good selectivity of cell adhesion and which can provide a fine pattern of cells in high resolution by culturing cells in a usual manner. The device is prepared by a process which comprises applying a photosensitive, cell adhesive or cell non-adhesive polymer to a surface having a reverse cell adhesivity property to that of the applied polymer, and patternwise irradiating a light to the photosensitive polymer layer followed by development; a process which comprises patternwise irradiating UV or radiation to a cell non-adhesive surface to produce a cell adhesive functional group such as carboxyl group or amino group in the irradiated portion; or a process which comprises patternwise irradiating UV or radiation to a cell adhesive or non-adhesive surface made of plastics to produce a polymerization initiation site in the irradiated portion, and graft-polymerizing at least one monomer having the reverse cell adhesivity property to the plastic surface to produce a polymer on the irradiated portion of plastic surface.

公开(公告)号：US4722883A

公开(公告)日：1988-02-02

申请号：US894122

申请日：1986-08-07

申请人： Shigeru Koibuchi ,  Asao Isobe ,  Daisuke Makino

发明人： Shigeru Koibuchi ,  Asao Isobe ,  Daisuke Makino

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/26 ,  H01L21/312

CPC分类号： C07C247/00 ,  G03F7/008

摘要： Fine patterns with high degree of resolution and high resistance to etching can be produced by coating a solution of a photosensitive composition comprising (a) an aromatic azide compound and (b) an alkaline-aqueous-solution-soluble polymer on a substrate, exposing predetermined portions of the coated photosensitive composition to ultraviolet light, developing with an alkaline aqueous solution to form a resist pattern, and etching the substrate using said resist pattern as a mask.

摘要翻译： 可以通过将包含（a）芳族叠氮化合物和（b）碱溶性水溶性聚合物的感光性组合物的溶液涂布在基材上，使预定的 涂布的感光性组合物的一部分与紫外线的照射，用碱性水溶液显影形成抗蚀剂图案，并使用所述抗蚀剂图案作为掩模蚀刻所述基板。

公开(公告)号：US4698291A

公开(公告)日：1987-10-06

申请号：US886353

申请日：1986-07-17

申请人： Shigeru Koibuchi ,  Asao Isobe ,  Daisuke Makino

发明人： Shigeru Koibuchi ,  Asao Isobe ,  Daisuke Makino

IPC分类号： C08F2/48 ,  C08F2/50 ,  C08F126/02 ,  G03F7/008 ,  G03F7/26 ,  G03C1/52 ,  G03C1/60 ,  G03C1/72

CPC分类号： C07C247/00 ,  C08F2/50 ,  G03F7/008

摘要： 4'-Azidobenzal-2-methoxyacetophenone is an excellent photosensitive compound and can give a photosensitive composition together with an alkaline-aqueous-solution-soluble polymer which can be insolubilized in an alkaline aqueous solution by photochemical curing with 4'-azidobenzal-2-methoxyacetophenone, and if necessary together with an organic solvent, said composition showing a very small change in viscosity with the lapse of long time.

摘要翻译： 4'-叠氮基亚苄基-2-甲氧基苯乙酮是一种优异的光敏化合物，可以与一种碱溶性水溶性聚合物一起得到感光性组合物，该聚合物可以通过光化学固化在碱性水溶液中不溶于4'-叠氮基亚苄基-2- 甲氧基苯乙酮，如果需要与有机溶剂一起，所述组合物随着时间的推移显示出非常小的粘度变化。

公开(公告)号：US4191571A

公开(公告)日：1980-03-04

申请号：US766348

申请日：1977-02-07

申请人： Saburo Nonogaki ,  Takahiro Kohashi ,  Yoshio Hatano

发明人： Saburo Nonogaki ,  Takahiro Kohashi ,  Yoshio Hatano

IPC分类号： G03F7/008 ,  H01J9/227 ,  H01J29/22 ,  G03C5/00 ,  G03C1/68

CPC分类号： H01J9/2271 ,  G03F7/008 ,  H01J29/225

摘要： The present invention relates to a novel light sensitive photoresist composition which is used for the photo-engraving process or for production of phosphor screen of color picture tubes. The light sensitive photoresist composition of the present invention comprises a novel water-soluble aromatic azide compound and a photo-crosslinkable water-soluble polymer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于光刻工艺或彩色显像管荧光屏制造的新型光敏光刻胶组合物。 本发明的光敏光刻胶组合物包含新的水溶性芳族叠氮化合物和可光交联的水溶性聚合物。