公开(公告)号：US07501226B2

公开(公告)日：2009-03-10

申请号：US10874982

申请日：2004-06-23

申请人： Burn Jeng Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Chun-Kung Chen ,  Ru-Gun Liu ,  Shing Shen Yu ,  Jen Chieh Shih

发明人： Burn Jeng Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Chun-Kung Chen ,  Ru-Gun Liu ,  Shing Shen Yu ,  Jen Chieh Shih

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithography system is disclosed to comprise a fluid containing feature for providing an immersion fluid for performing immersion lithography on a wafer, and a seal ring covering a predetermined portion of a wafer edge for preventing the immersion fluid from leaking through the covered portion of the wafer edge while the fluid is used for the immersion lithography.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻系统，其包括用于提供用于在晶片上进行浸没式光刻的浸没流体的流体容纳特征，以及覆盖晶片边缘的预定部分的密封环，用于防止浸没流体泄漏通过 晶片边缘，同时流体用于浸没光刻。