公开(公告)号：US20140346391A1

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：US14357689

申请日：2012-10-31

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Bong-Hwan Kim ,  Taek-Soo Kwak ,  Jin-Hee Bae ,  Hui-Chan Yun ,  Sang-Hak Lim ,  Sang-Kyun Kim ,  Jin-Wook Lee

IPC分类号： C09K13/00 ,  H01L21/02

CPC分类号： C09K13/00 ,  C08G77/62 ,  C09D183/16 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/31111

摘要： Provided is a rinse solution for a hydrogenated polysiloxazane thin film including an additive selected from an alcohol-based solvent, an ester-based solvent, a silanol-based solvent, an alkoxysilane-based solvent, an alkylsilazane-based solvent, and a combination thereof in an amount of 0.01 wt % to 7 wt % based on the total amount of the rinse solution.

摘要翻译： 本发明提供了一种氢化聚硅氧氮烷薄膜的漂洗溶液，其包括选自醇系溶剂，酯系溶剂，硅烷醇系溶剂，烷氧基硅烷系溶剂，烷基硅氮烷系溶剂及其组合的添加剂 相对于冲洗溶液的总量为0.01重量％〜7重量％。