公开(公告)号：US20150056892A1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：US14459452

申请日：2014-08-14

Applicant: Cabot Microelectronics Corporation

Inventor： Robert VACASSY ,  George FOTOU

IPC: B24B37/24 ,  C08J9/00 ,  H01L21/306 ,  B24B37/22 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/042 ,  B24B37/22 ,  C08J9/122 ,  C08J2201/032 ,  C08J2203/06 ,  C08J2205/044 ,  C08J2205/052 ,  C08J2207/00 ,  C08J2300/22 ,  C08J2300/26 ,  C08J2375/04

Abstract: Disclosed is a polishing pad for chemical-mechanical polishing. The polishing pad has a porous interface and a substantially non-porous bulk core. Also disclosed are related apparatus and methods for using and preparing the polishing pad.

Abstract translation: 公开了一种用于化学机械抛光的抛光垫。 抛光垫具有多孔界面和基本上无孔的块体。 还公开了用于使用和制备抛光垫的相关装置和方法。