公开(公告)号：US08968983B2

公开(公告)日：2015-03-03

申请号：US13565589

申请日：2012-08-02

申请人： Cha-Dong Kim ,  Sang Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Su-Yeon Sim ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Yong-Il Kim ,  Shi-Jin Sung ,  Eun-Sang Lee ,  Sung-Yeol Jin

发明人： Cha-Dong Kim ,  Sang Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Su-Yeon Sim ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Yong-Il Kim ,  Shi-Jin Sung ,  Eun-Sang Lee ,  Sung-Yeol Jin

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/1005

摘要： A photoresist composition, a method of forming a pattern using the photoresist composition, and a method of manufacturing a display substrate are disclosed. A photoresist composition includes an alkali-soluble resin, a quinone diazide-based compound, a multivalent phenol-based compound, and a solvent. Therefore, photosensitivity for light having a wavelength in a range of about 392 nm to about 417 nm may be improved, and reliability of forming a photo pattern and a thin film pattern using the photoresist composition may be improved.

摘要翻译： 公开了一种光致抗蚀剂组合物，使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，以及制造显示基板的方法。 光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，醌二叠氮化合物，多价酚类化合物和溶剂。 因此，可以改善波长在约392nm至约417nm范围内的光的光敏性，并且可以提高使用光致抗蚀剂组合物形成光图案和薄膜图案的可靠性。

公开(公告)号：US20130040410A1

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：US13565589

申请日：2012-08-02

申请人： Cha-Dong KIM ,  Sang Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Su-Yeon Sim ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Yong-Il Kim ,  Shi-Jin Sung ,  Eun-Sang Lee ,  Sung-Yeol Jin

发明人： Cha-Dong KIM ,  Sang Hyun Yun ,  Jung-In Park ,  Su-Yeon Sim ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Tae Kim ,  Yong-Il Kim ,  Shi-Jin Sung ,  Eun-Sang Lee ,  Sung-Yeol Jin

IPC分类号： G03F7/022 ,  H01L33/08 ,  B44C1/22

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/1005

摘要： A photoresist composition, a method of forming a pattern using the photoresist composition, and a method of manufacturing a display substrate are disclosed. A photoresist composition includes an alkali-soluble resin, a quinone diazide-based compound, a multivalent phenol-based compound, and a solvent. Therefore, photosensitivity for light having a wavelength in a range of about 392 nm to about 417 nm may be improved, and reliability of forming a photo pattern and a thin film pattern using the photoresist composition may be improved.

摘要翻译： 公开了一种光致抗蚀剂组合物，使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，以及制造显示基板的方法。 光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，醌二叠氮化合物，多价酚类化合物和溶剂。 因此，可以改善波长在约392nm至约417nm范围内的光的光敏性，并且可以提高使用光致抗蚀剂组合物形成光图案和薄膜图案的可靠性。

公开(公告)号：US08802356B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13309679

申请日：2011-12-02

申请人： Sang Hyun Yun ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park ,  Hi Kuk Lee ,  Su-Yeon Sim

发明人： Sang Hyun Yun ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park ,  Hi Kuk Lee ,  Su-Yeon Sim

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F7/70441

摘要： A method for manufacturing a photosensitive film pattern includes: forming a thin film on a substrate; forming a photosensitive film on the thin film; arranging an exposure apparatus including a photo-modulation element on the photosensitive film; exposing the photosensitive film using the exposure apparatus according to an exposure pattern of the photo-modulation element; and developing the exposed photosensitive film to form a photosensitive film pattern. The exposure pattern includes a main pattern of a quadrangular shape and a at least one assistance pattern positioned at a corner of the main pattern. The photosensitive film pattern has a quadrangular shape with a long edge and a short edge, and a corner with a curved surface having a curvature radius of 20% to 40% of a length of the short edge.

摘要翻译： 感光膜图案的制造方法包括：在基板上形成薄膜; 在薄膜上形成感光膜; 在感光膜上布置包括光调制元件的曝光装置; 根据光调制元件的曝光图案，使用曝光装置曝光感光膜; 并显影曝光的感光膜以形成感光膜图案。 曝光图案包括四边形的主图案和位于主图案的拐角处的至少一个辅助图案。 感光膜图案具有长边缘和短边缘的四边形形状，以及具有曲率半径为短边长度的20％至40％的曲面的拐角。