公开(公告)号：US20100105157A1

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：US12259037

申请日：2008-10-27

申请人： Cheng-Hsun Lee ,  Yi-Tyng Wu ,  Wei-Chen Sun ,  Yuan-Sheng Chiang

发明人： Cheng-Hsun Lee ,  Yi-Tyng Wu ,  Wei-Chen Sun ,  Yuan-Sheng Chiang

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： G02F1/133553 ,  G02F1/13454 ,  G02F1/136277 ,  H01L51/56

摘要： A process of a micro-display is provided. First, a substrate having a pixel region and a periphery circuit region is provided, in which a metal reflection layer is formed in the pixel region, and a periphery circuit is formed in the periphery circuit region. Next, a dielectric layer is formed on the substrate to cover the pixel region and the periphery circuit region. Then, a patterned mask layer exposing the dielectric layer on the metal reflection layer is formed on the dielectric layer. Thereafter, a portion of the exposed dielectric layer is removed by using the patterned mask layer as a mask. Next, the patterned mask layer is removed. And then, a portion of the dielectric layer is removed to expose the metal reflection layer.

摘要翻译： 提供微显示器的处理。 首先，提供具有像素区域和外围电路区域的基板，其中在像素区域中形成金属反射层，并且在外围电路区域中形成外围电路。 接下来，在基板上形成介电层以覆盖像素区域和外围电路区域。 然后，在电介质层上形成露出金属反射层上的电介质层的图案化掩模层。 此后，通过使用图案化掩模层作为掩模去除暴露介电层的一部分。 接下来，去除图案化的掩模层。 然后，除去介电层的一部分以露出金属反射层。

公开(公告)号：US08815102B2

公开(公告)日：2014-08-26

申请号：US13427985

申请日：2012-03-23

申请人： Yi-Tyng Wu

发明人： Yi-Tyng Wu

IPC分类号： C30B33/00

CPC分类号： G02B5/201 ,  G02B5/285

摘要： A method for fabricating a patterned dichroic film is provided, wherein the method comprises steps as follows: A patterned material layer comprising at least one inorganic layer is firstly provided on a substrate. A film deposition process is then performed to form a dichroic film on the patterned material layer and the substrate. The patterned material layer is subsequently removed, whereby a portion of the dichroic film disposed on the patterned material layer can be removed simultaneously.

摘要翻译： 提供了一种用于制造图案化二向色膜的方法，其中该方法包括以下步骤：首先在衬底上提供包含至少一个无机层的图案化材料层。 然后进行膜沉积工艺以在图案化材料层和衬底上形成二向色膜。 随后去除图案化的材料层，由此可以同时去除布置在图案化材料层上的二向色膜的一部分。

公开(公告)号：US20110051054A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12552297

申请日：2009-09-02

申请人： Kuan-Hsiung Wang ,  Yi-Tyng Wu

发明人： Kuan-Hsiung Wang ,  Yi-Tyng Wu

IPC分类号： G02F1/1335 ,  H01L21/77

CPC分类号： G02F1/136277 ,  G02F2001/136222 ,  H01L27/1248

摘要： A liquid crystal on silicon (LCoS) panel is disclosed. The LCoS panel includes: a substrate having at least one metal-oxide semiconductor (MOS) transistor thereon; a pixel electrode array disposed on the substrate; a plurality of color filters with at least two different colors disposed on the pixel electrode array, wherein adjacent color filters comprise a gap therebetween and at least two of the color filters are not coplanar; an inorganic film disposed on the color filters and within the gap; and an organic film covering the inorganic film entirely.

摘要翻译： 公开了一种硅液晶（LCoS）面板。 LCoS面板包括：其上具有至少一个金属氧化物半导体（MOS）晶体管的衬底; 设置在所述基板上的像素电极阵列; 具有至少两种不同颜色的多个滤色器，设置在像素电极阵列上，其中相邻的滤色器包括它们之间的间隙，并且至少两个滤色片不是共面的; 设置在滤色器上和间隙内的无机膜; 以及完全覆盖无机膜的有机膜。

公开(公告)号：US20070221616A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US11388491

申请日：2006-03-24

申请人： Yi-Tyng Wu ,  Hua-Wei Yu

发明人： Yi-Tyng Wu ,  Hua-Wei Yu

IPC分类号： C03C25/68 ,  B44C1/22

CPC分类号： G02F1/133516 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223

摘要： The invention is directed to a method for etching a color filter. The method comprises steps of providing a substrate having a multilayered filter material layer formed thereon and then disposing the substrate into an etching chamber with introducing a gas mixture into the etching chamber for performing a dry etching process so as to pattern the multilayered filter material layer, wherein the gas mixture comprises a physical reactive gas and a chemical reactive gas.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于蚀刻滤色器的方法。 该方法包括以下步骤：提供具有形成在其上的多层过滤材料层的衬底，然后将衬底设置在蚀刻室中，同时将气体混合物引入蚀刻室，以执行干蚀刻工艺，以便对多层过滤材料层进行图案化， 其中所述气体混合物包括物理反应气体和化学反应性气体。

公开(公告)号：US20070054429A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11161997

申请日：2005-08-25

申请人： Tsuan-Lun Lung ,  Chih-Hung Cheng ,  Yi-Tyng Wu ,  Shih-Hung Chen

发明人： Tsuan-Lun Lung ,  Chih-Hung Cheng ,  Yi-Tyng Wu ,  Shih-Hung Chen

IPC分类号： H01L51/40 ,  H01L21/00 ,  H01L21/44

CPC分类号： H01L51/5271 ,  G02F1/133553 ,  G02F1/136277 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/5315

摘要： A method for manufacturing a back panel on a substrate is provided. The substrate has at least a switching device formed therein and a dielectric layer structure formed thereon. An interconnect structure is also formed in the dielectric layer structure. The method of forming the back panel comprises the step of performing an alloying process. After the alloying process, a pixel mirror layer is formed over the substrate. The pixel mirror layer is electrically connected to the switching device through the interconnect structure. A planar passivation layer is formed on the pixel mirror layer. Then, the planar passivation layer is patterned to expose a portion of the pixel mirror layer.

摘要翻译： 提供了一种用于在基板上制造背板的方法。 基板至少形成有开关装置，并且在其上形成介电层结构。 在电介质层结构中也形成互连结构。 形成后面板的方法包括进行合金化处理的步骤。 在合金化处理之后，在衬底上形成像素镜层。 像素镜层通过互连结构电连接到开关装置。 平面钝化层形成在像素镜面层上。 然后，对平面钝化层进行图案化以暴露像素镜面层的一部分。

公开(公告)号：US08300335B2

公开(公告)日：2012-10-30

申请号：US12482456

申请日：2009-06-11

申请人： Yi-Tyng Wu

发明人： Yi-Tyng Wu

IPC分类号： G02B5/22 ,  G03B21/14 ,  H01L31/062

CPC分类号： G02B5/201 ,  G02F1/133351 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/136277 ,  G02F2201/56

摘要： An image device includes a substrate having a die region defined thereon, a layout pattern positioned in the die region, and a color filter array including a plurality of color filters arranged in a matrix in the die region. The die region includes at least a die corner. The color filter array further includes at least a color filter array corner, and at least two apexes of the color filters arranged in the color filter array corner are separated from the corresponding layout pattern by a shortest distance.

摘要翻译： 图像装置包括具有限定在其上的管芯区域的基板，位于管芯区域中的布局图案，以及包括在管芯区域中以矩阵布置的多个滤色器阵列的滤色器阵列。 模具区域至少包括模角。 滤色器阵列还至少包括滤色器阵列角，并且布置在滤色器阵列角中的滤色器的至少两个顶点与相应的布局图案分开最短的距离。

公开(公告)号：US07429438B2

公开(公告)日：2008-09-30

申请号：US11553475

申请日：2006-10-27

申请人： Yi-Tyng Wu

发明人： Yi-Tyng Wu

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G02B5/201

摘要： A method of fabricating a color filter is provided, which includes the following steps. First, a loose composite film is formed. Next, the loose composite film is patterned to form a patterned composite film. Then, a treatment process is performed to dense the patterned composite film, thereby a color filter is formed.

摘要翻译： 提供一种制造滤色器的方法，其包括以下步骤。 首先，形成松散的复合膜。 接下来，将松散的复合膜图案化以形成图案化的复合膜。 然后，对图案化复合膜进行致密处理，从而形成滤色器。

公开(公告)号：US20080017945A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11459635

申请日：2006-07-24

申请人： Yi-Tyng Wu ,  Fu-Kuo Ou ,  Ta-Shuang Kuan

发明人： Yi-Tyng Wu ,  Fu-Kuo Ou ,  Ta-Shuang Kuan

IPC分类号： H01L31/00 ,  G02B5/20

CPC分类号： G02B5/201 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14685

摘要： A method for fabricating a color filter is disclosed. First, a substrate having a dielectric layer and a passivation thereon is provided. Next, a first pattern transfer process is performed to form a trench in the dielectric layer and the passivation layer, and a color filter is formed in the trench, in which the color filter partially covers the surface of the passivation layer. Next, a chemical mechanical polishing process is performed to planarize the color filter, such that the surface of the color filter is even with the surface of the passivation layer.

摘要翻译： 公开了一种制造滤色器的方法。 首先，提供具有介电层和钝化的基板。 接下来，执行第一图案转印处理以在介电层和钝化层中形成沟槽，并且在沟槽中形成滤色器，其中滤色器部分地覆盖钝化层的表面。 接下来，进行化学机械抛光工艺以使滤色器平坦化，使得滤色器的表面与钝化层的表面均匀。

公开(公告)号：US20070264586A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11308810

申请日：2006-05-10

申请人： Yi-Tyng Wu ,  Fu-Kuo Ou

发明人： Yi-Tyng Wu ,  Fu-Kuo Ou

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G02B5/201 ,  G02B5/22

摘要： A method of manufacturing a dichroic filter array is provided and comprises forming a first dichroic filter material layer on a substrate, and then forming a patterned photoresist layer on the first dichroic filter material layer. The exposed portion of the first dichroic filter material layer is removed so as to form a plurality of first dichroic filter units. A second dichroic filter material layer is formed on the substrate and the patterned photoresist layer. The patterned photoresist layer and the second dichroic filter material layer located on the patterned photoresist layer are removed, and the second dichroic filter material layer between the first dichroic filter units are transformed into a plurality of second dichroic filter units. By using etching process and the lift-off process to simultaneously remove redundant dichroic filter material and the photoreisit layer, the multi-chroic filter array device with a relatively small volume can be rapidly produced.

摘要翻译： 提供了一种制造二向色滤光器阵列的方法，包括在衬底上形成第一二向色滤光材料层，然后在第一二向色滤光材料层上形成图案化的光致抗蚀剂层。 去除第一分色过滤材料层的暴露部分以便形成多个第一二向色过滤器单元。 在基板和图案化的光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。 去除图案化的光致抗蚀剂层和位于图案化的光致抗蚀剂层上的第二二向色过滤材料层，并且将第一分色滤光器单元之间的第二二向色滤光器层转变成多个第二二向色滤光器单元。 通过使用蚀刻工艺和剥离工艺来同时去除冗余的二向色滤光片材料和光敏层，可以快速产生具有相对较小体积的多色滤光器阵列器件。

公开(公告)号：US06177326B1

公开(公告)日：2001-01-23

申请号：US09208607

申请日：1998-12-08

申请人： Yi-Tyng Wu ,  Kuo-Chi Lin

发明人： Yi-Tyng Wu ,  Kuo-Chi Lin

IPC分类号： H01L2120

CPC分类号： H01L28/84

摘要： A method for fabricating a bottom electrode is provided. In this method a dielectric layer is formed on a substrate having a source/drain region. A via hole is formed in the dielectric layer to expose the source/drain region. A patterned, doped polysilicon layer is formed on the dielectric layer and fills the via hole, wherein the cross-section of the patterned doped polysilicon layer is arced or polygonal. The surface of the patterned polysilicon layer is transformed into an amorphous silicon layer. A hemispherical-grain layer is formed on the amorphous silicon layer.

摘要翻译： 提供一种制造底部电极的方法。 在该方法中，在具有源极/漏极区域的衬底上形成介电层。 在电介质层中形成通孔以暴露源/漏区。 在电介质层上形成图案化的掺杂多晶硅层，并填充通孔，其中图案化掺杂多晶硅层的横截面为弧形或多边形。 图案化多晶硅层的表面被转变成非晶硅层。 在非晶硅层上形成半球形晶粒层。