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    PARTICLE EMISSION ANALYSIS FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION STEPS
    1.
    发明申请
    PARTICLE EMISSION ANALYSIS FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION STEPS 有权
    用于半导体制造步骤的颗粒排放分析

    公开(公告)号：US20100084656A1

    公开(公告)日：2010-04-08

    申请号：US12247474

    申请日：2008-10-08

    申请人： Cyril Cabral, JR. ,  Michael S. Gordon ,  Jeff McMurray ,  Liesl McMurray ,  Cristina Plettner ,  Paul Andrew Ronsheim

    发明人： Cyril Cabral, JR. ,  Michael S. Gordon ,  Jeff McMurray ,  Liesl McMurray ,  Cristina Plettner ,  Paul Andrew Ronsheim

    IPC分类号： H01L23/58 ,  H01L21/66

    CPC分类号： G01T1/00 ,  H01L22/10

    摘要： A structure and a method for operating the same. The method includes providing a detecting structure which includes N detectors. N is a positive integer. A fabrication step is simultaneously performed on the detecting structure and M product structures in a fabrication tool resulting in a particle-emitting layer on the detecting structure. The detecting structure is different than the M product structures. The M product structures are identical. M is a positive integer. An impact of emitting particles from the particle-emitting layer on the detecting structure is analyzed after said performing is performed.

    摘要翻译： 一种结构及其操作方法。 该方法包括提供包括N个检测器的检测结构。 N是正整数。 在制造工具中的检测结构和M产品结构上同时进行制造步骤，从而在检测结构上产生颗粒发射层。 检测结构与M产品结构不同。 M产品结构相同。 M是正整数。 在执行所述执行之后，分析从颗粒发射层发射颗粒对检测结构的影响。

    Particle emission analysis for semiconductor fabrication steps
    2.
    发明授权
    Particle emission analysis for semiconductor fabrication steps 有权
    半导体制造步骤的粒子发射分析

    公开(公告)号：US08158449B2

    公开(公告)日：2012-04-17

    申请号：US12247474

    申请日：2008-10-08

    申请人： Cyril Cabral, Jr. ,  Michael S. Gordon ,  Jeff McMurray ,  Liesl M. McMurray, legal representative ,  Cristina Plettner ,  Paul Andrew Ronsheim

    发明人： Cyril Cabral, Jr. ,  Michael S. Gordon ,  Jeff McMurray ,  Cristina Plettner ,  Paul Andrew Ronsheim

    IPC分类号： H01L21/00

    CPC分类号： G01T1/00 ,  H01L22/10

    摘要： A structure and a method for operating the same. The method includes providing a detecting structure which includes N detectors. N is a positive integer. A fabrication step is simultaneously performed on the detecting structure and M product structures in a fabrication tool resulting in a particle-emitting layer on the detecting structure. The detecting structure is different than the M product structures. The M product structures are identical. M is a positive integer. An impact of emitting particles from the particle-emitting layer on the detecting structure is analyzed after said performing is performed.

    摘要翻译： 一种结构及其操作方法。 该方法包括提供包括N个检测器的检测结构。 N是正整数。 在制造工具中的检测结构和M产品结构上同时进行制造步骤，从而在检测结构上产生颗粒发射层。 检测结构与M产品结构不同。 M产品结构相同。 M是正整数。 在执行所述执行之后，分析从颗粒发射层发射颗粒对检测结构的影响。