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    METHOD FOR FORMING A MICROSTRUCTURE
    1.
    发明申请
    METHOD FOR FORMING A MICROSTRUCTURE 失效
    形成微结构的方法

    公开(公告)号：US20120114903A1

    公开(公告)日：2012-05-10

    申请号：US13231863

    申请日：2011-09-13

    申请人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    发明人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/203 ,  G03F7/26

    摘要： A method for forming a microstructure includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable compound that has a photocurable functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask using a first light source so that the photocurable layer is cured at first regions which are exposed; (d) removing the patterned mask; and (e) illuminating the photocurable layer using a second light source to cure second regions of the photocurable layer which have not been cured. The first and second regions have different surface heights and provide a surface roughness for the microstructure.

    摘要翻译： 形成微结构的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种光固化性的化合物，其光固化官能团当量为70-700g / mol; （b）使用图案化的掩模部分地覆盖光固化层; （c）使用第一光源使可光固化层通过图案化掩模曝光，使得可光固化层在暴露的第一区域固化; （d）去除图案化掩模; 和（e）使用第二光源照射光固化层以固化未固化的光固化层的第二区域。 第一和第二区域具有不同的表面高度并为微观结构提供表面粗糙度。

    Method for forming a microstructure
    2.
    发明授权
    Method for forming a microstructure 失效
    微结构形成方法

    公开(公告)号：US08703409B2

    公开(公告)日：2014-04-22

    申请号：US13231863

    申请日：2011-09-13

    申请人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    发明人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/203 ,  G03F7/26

    摘要： A method for forming a microstructure includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable compound that has a photocurable functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask using a first light source so that the photocurable layer is cured at first regions which are exposed; (d) removing the patterned mask; and (e) illuminating the photocurable layer using a second light source to cure second regions of the photocurable layer which have not been cured. The first and second regions have different surface heights and provide a surface roughness for the microstructure.

    摘要翻译： 形成微结构的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种光固化性的化合物，其光固化官能团当量为70-700g / mol; （b）使用图案化掩模部分地覆盖光固化层; （c）使用第一光源使可光固化层通过图案化掩模曝光，使得可光固化层在暴露的第一区域固化; （d）去除图案化掩模; 和（e）使用第二光源照射光固化层以固化未固化的光固化层的第二区域。 第一和第二区域具有不同的表面高度并为微观结构提供表面粗糙度。