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    METHOD FOR FORMING A MICROSTRUCTURE
    2.
    发明申请
    METHOD FOR FORMING A MICROSTRUCTURE 失效
    形成微结构的方法

    公开(公告)号：US20120114903A1

    公开(公告)日：2012-05-10

    申请号：US13231863

    申请日：2011-09-13

    申请人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    发明人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/203 ,  G03F7/26

    摘要： A method for forming a microstructure includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable compound that has a photocurable functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask using a first light source so that the photocurable layer is cured at first regions which are exposed; (d) removing the patterned mask; and (e) illuminating the photocurable layer using a second light source to cure second regions of the photocurable layer which have not been cured. The first and second regions have different surface heights and provide a surface roughness for the microstructure.

    摘要翻译： 形成微结构的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种光固化性的化合物，其光固化官能团当量为70-700g / mol; （b）使用图案化的掩模部分地覆盖光固化层; （c）使用第一光源使可光固化层通过图案化掩模曝光，使得可光固化层在暴露的第一区域固化; （d）去除图案化掩模; 和（e）使用第二光源照射光固化层以固化未固化的光固化层的第二区域。 第一和第二区域具有不同的表面高度并为微观结构提供表面粗糙度。

    Method for forming a microstructure
    5.
    发明授权
    Method for forming a microstructure 失效
    微结构形成方法

    公开(公告)号：US08703409B2

    公开(公告)日：2014-04-22

    申请号：US13231863

    申请日：2011-09-13

    申请人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    发明人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Shoh-Yue Lin ,  Chiu-Fang Chen ,  Tzu-Ying Chen

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/203 ,  G03F7/26

    摘要： A method for forming a microstructure includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable compound that has a photocurable functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask using a first light source so that the photocurable layer is cured at first regions which are exposed; (d) removing the patterned mask; and (e) illuminating the photocurable layer using a second light source to cure second regions of the photocurable layer which have not been cured. The first and second regions have different surface heights and provide a surface roughness for the microstructure.

    摘要翻译： 形成微结构的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种光固化性的化合物，其光固化官能团当量为70-700g / mol; （b）使用图案化掩模部分地覆盖光固化层; （c）使用第一光源使可光固化层通过图案化掩模曝光，使得可光固化层在暴露的第一区域固化; （d）去除图案化掩模; 和（e）使用第二光源照射光固化层以固化未固化的光固化层的第二区域。 第一和第二区域具有不同的表面高度并为微观结构提供表面粗糙度。

    METHOD FOR MAKING A RETARDATION FILM
    6.
    发明申请
    METHOD FOR MAKING A RETARDATION FILM 审中-公开
    制作延迟膜的方法

    公开(公告)号：US20130164661A1

    公开(公告)日：2013-06-27

    申请号：US13617559

    申请日：2012-09-14

    申请人： Chien-Cheng Chang ,  Chiu-Fang Chen ,  Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung

    发明人： Chien-Cheng Chang ,  Chiu-Fang Chen ,  Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B5/3016

    摘要： A method for making a retardation film includes: (a) forming a photo-alignment layer on a substrate; (b) exposing the photo-alignment layer such that first and second regions of the alignment surface are oriented in a first alignment direction; (c) disposing a patterned mask over the photo-alignment layer such that the first regions of the alignment surface are shielded; (d) exposing the second regions such that the second regions are oriented in a second alignment direction, and the first regions remain oriented in the first alignment direction; (e) coating liquid crystal molecules over the alignment surface; and (f) curing the liquid crystal molecules.

    摘要翻译： 制造延迟膜的方法包括：（a）在基板上形成光取向层; （b）使所述光取向层曝光，使得所述对准表面的第一和第二区域沿第一对准方向取向; （c）在光取向层上设置图案化掩模，使得对准表面的第一区域被屏蔽; （d）使所述第二区域曝光，使得所述第二区域沿第二排列方向取向，并且所述第一区域保持朝向所述第一对准方向; （e）在对准表面上涂覆液晶分子; 和（f）固化液晶分子。

    Method for making a retarder
    7.
    发明授权
    Method for making a retarder 有权
    制造缓凝剂的方法

    公开(公告)号：US08828650B2

    公开(公告)日：2014-09-09

    申请号：US13618008

    申请日：2012-09-14

    申请人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Chiu-Fang Chen ,  Yu-June Wu

    发明人： Da-Ren Chiou ,  Wei-Che Hung ,  Chiu-Fang Chen ,  Yu-June Wu

    IPC分类号： G03F7/26 ,  C08F2/46

    CPC分类号： C08F2/46 ,  G02B5/3083 ,  G02B27/26 ,  G02F2001/133633 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/2016 ,  G03F7/2022

    摘要： A method for making a retarder includes: (a) forming a photocurable layer on a substrate, the photocurable layer including at least one photocurable prepolymer that has a plurality of reactive functional groups and a functional group equivalent weight ranging from 70 to 700 g/mol; (b) covering partially the photocurable layer using a patterned mask; (c) exposing the photocurable layer through the patterned mask; (d) removing the patterned mask; (e) exposing the photocurable layer to cure second regions of the photocurable layer so as to form a microstructure; (f) forming an alignment layer on the microstructure; (g) forming a liquid crystal layer on the alignment layer; and (h) curing the liquid crystal layer.

    摘要翻译： 一种制造缓凝剂的方法包括：（a）在基材上形成光固化层，所述光固化层包含至少一种具有多个反应性官能团和官能团当量为70〜700g / mol的光固化性预聚物 ; （b）使用图案化掩模部分地覆盖光固化层; （c）将光固化层曝光通过图案化掩模; （d）去除图案化掩模; （e）使光固化层曝光以固化光固化层的第二区域以形成微结构; （f）在所述微观结构上形成取向层; （g）在取向层上形成液晶层; 和（h）固化液晶层。