公开(公告)号：US20050271977A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11142444

申请日：2005-06-02

申请人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F8/12 ,  C08F212/14 ,  G03C1/492 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08K5/36 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  C08L25/14 ,  C08L25/18 ,  C08F212/08

摘要： A photosensitive polymer for forming high-resolution fine circuit patterns with an exposure light source of a short wavelength, and a chemically amplified photoresist composition including the polymer, are disclosed. The photosensitive polymer is represented by the following Formula 1, wherein R1 is a hydrogen atom, R2 is a hydrogen atom, R3 is a chlorine atom, a bromine atom, hydroxy, cyano, t-butoxy, CH2NH2, CONH2, CH═NH, CH(OH)NH2 or C(OH)═NH group, R4 is a hydrogen atom or methyl group, each of 1-x-y-z, x, y and z is a degree of polymerization of each repeating unit constituting the photosensitive polymer, x, y and z are 0.01 to 0.8, respectively, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 公开了用于形成具有短波长的曝光光源的高分辨率精细电路图案的光敏聚合物和包含该聚合物的化学放大光致抗蚀剂组合物。 光敏聚合物由下式1表示，其中R 1是氢原子，R 2是氢原子，R 3是 氯原子，溴原子，羟基，氰基，叔丁氧基，CH 2 NH 2，CONH 2，CH-NH，CH （OH）NH 2或C（OH）-NH基，R 4是氢原子或甲基，1-xyz，x，y和z分别为 构成感光性聚合物的各重复单元的x，y，z的聚合度分别为0.01〜0.8，n为1或2。

公开(公告)号：US07297463B2

公开(公告)日：2007-11-20

申请号：US11142444

申请日：2005-06-02

申请人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Deog-Bae Kim ,  Sang-Jeoung Kim ,  Hwa-Young Kim ,  Jin Jegal ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： C08F212/08

CPC分类号： C08F212/14 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08K5/36 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  C08L25/14 ,  C08L25/18 ,  C08F212/08

摘要： A photosensitive polymer for forming high-resolution fine circuit patterns with an exposure light source of a short wavelength, and a chemically amplified photoresist composition including the polymer, are disclosed. The photosensitive polymer is represented by the following Formula 1, wherein R1 is a hydrogen atom, R2 is a hydrogen atom, R3 is a chlorine atom, a bromine atom, hydroxy, cyano, t-butoxy, CH2NH2, CONH2, CH═NH, CH(OH)NH2 or C(OH)═NH group, R4 is a hydrogen atom or methyl group, each of 1-x-y-z, x, y and z is a degree of polymerization of each repeating unit constituting the photosensitive polymer, x, y and z are 0.01 to 0.8, respectively, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 公开了用于形成具有短波长的曝光光源的高分辨率精细电路图案的光敏聚合物和包含该聚合物的化学放大光致抗蚀剂组合物。 光敏聚合物由下式1表示，其中R 1是氢原子，R 2是氢原子，R 3是 氯原子，溴原子，羟基，氰基，叔丁氧基，CH 2 NH 2，CONH 2，CH-NH，CH （OH）NH 2或C（OH）-NH基，R 4是氢原子或甲基，1-xyz，x，y和z分别为 构成感光性聚合物的各重复单元的x，y，z的聚合度分别为0.01〜0.8，n为1或2。

公开(公告)号：US07629110B2

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：US11945895

申请日：2007-11-27

申请人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  C07F7/04 ,  C08G65/22

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08K5/13 ,  C08K5/549 ,  G03F7/0752 ,  Y10S438/952

摘要： A monomer for forming an organic anti-reflective coating layer, a polymer thereof and a composition including the same are disclosed. In a photolithography process, the organic anti-reflective coating layer absorbs an exposed light between a layer to be etched and a photoresist layer, and prevents a photoresist pattern from collapsing due to a standing wave generated under the photoresist layer. The polymer for forming an organic anti-reflective coating layer includes a repeating unit represented by Formula wherein, R1 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, R2 is a C1˜C20 alkylene group, a C3˜C20 cycloalkylene group or a C6˜C20 aromatic hydrocarbon group, POSS is a polyhedral-oligomeric-silsesquioxane, and m is an integer of 2 to 110.

摘要翻译： 公开了用于形成有机抗反射涂层的单体，其聚合物和包含其的组合物。 在光刻工艺中，有机抗反射涂层吸收被蚀刻层和光致抗蚀剂层之间的暴露光，并且防止光致抗蚀剂图案由于在光致抗蚀剂层下产生的驻波而塌陷。 用于形成有机抗反射涂层的聚合物包括由式表示的重复单元，其中R1是氢原子，甲基或乙基，R2是C1〜C20亚烷基，C3〜C20亚环烷基或 C6〜C20芳香族烃基，POSS为多面体 - 低聚倍半硅氧烷，m为2〜110的整数。

公开(公告)号：US07829650B2

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US11952324

申请日：2007-12-07

申请人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G77/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G77/045 ,  C08G77/38 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  Y10S438/952

摘要： A polymer which has siloxane group at a main chain thereof and a composition including the same, for forming an organic anti-reflective coating layer are disclosed. The polymer for forming an organic anti-reflective coating layer is represented by following Formula. In Formula, R is hydrogen atom, C1˜C20 alkyl group, C1˜C10 alcohol group or epoxy group, R1 is independently hydrogen atom, n is an integer of 1-50, R2 is C1˜C20 alkyl group, C3˜C20 cycloalkyl group, C6˜C20 aryl group or C7˜C12 arylalkyl group, R3 is hydrogen atom, C1˜C10 alcohol group or epoxy group and POSS is a polyhedral oligosilsesquioxane.

摘要翻译： 公开了一种在其主链上具有硅氧烷基团的聚合物及其组合物，用于形成有机抗反射涂层。 用于形成有机抗反射涂层的聚合物由下式表示。 在式中，R为氢原子，C 1 -C 20烷基，C 1〜C 10醇基或环氧基，R 1独立地为氢原子，n为1-50的整数，R 2为C 1〜C 20烷基，C 3〜C 20环烷基 基团，C 6〜C 20芳基或C 7〜C 12芳烷基，R 3为氢原子，C 1〜C 10醇基或环氧基，POSS为多面体低聚倍半硅氧烷。

公开(公告)号：US08026042B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US12836453

申请日：2010-07-14

申请人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/11 ,  H01L21/302 ,  C08G77/00 ,  C08G77/14 ,  C08J5/22 ,  C08K5/13 ,  C08L83/10 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G77/045 ,  C08G77/38 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  Y10S438/952

摘要： A polymer which has siloxane group at a main chain thereof and a composition including the same, for forming an organic anti-reflective coating layer are disclosed. The polymer for forming an organic anti-reflective coating layer is represented by following Formula. In Formula, R is hydrogen atom, C1˜C20 alkyl group, C1˜C10 alcohol group or epoxy group, R1 is independently hydrogen atom, n is an integer of 1-50, R2 is C1˜C20 alkyl group, C3˜C20 cycloalkyl group, C6˜C20 aryl group or C7˜C12 arylalkyl group, R3 is hydrogen atom, C1˜C10 alcohol group or epoxy group and POSS is a polyhedral oligosilsesquioxane.

摘要翻译： 公开了一种在其主链上具有硅氧烷基团的聚合物及其组合物，用于形成有机抗反射涂层。 用于形成有机抗反射涂层的聚合物由下式表示。 在式中，R为氢原子，C 1 -C 20烷基，C 1〜C 10醇基或环氧基，R 1独立地为氢原子，n为1-50的整数，R 2为C 1〜C 20烷基，C 3〜C 20环烷基 基团，C 6〜C 20芳基或C 7〜C 12芳烷基，R 3为氢原子，C 1〜C 10醇基或环氧基，POSS为多面体低聚倍半硅氧烷。

公开(公告)号：US20080213701A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US11952324

申请日：2007-12-07

申请人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Sang-Jeoung Kim ,  Hyo-Jung Roh ,  Jong-Kyoung Park ,  Jeong-Sik Kim ,  Hyun-Jin Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03F7/30 ,  F21V9/04 ,  C08G77/04

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G77/045 ,  C08G77/38 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0752 ,  Y10S438/952

摘要： A polymer which has siloxane group at a main chain thereof and a composition including the same, for forming an organic anti-reflective coating layer are disclosed. The polymer for forming an organic anti-reflective coating layer is represented by following Formula. In Formula, R is hydrogen atom, C1˜C20 alkyl group, C1˜C10 alcohol group or epoxy group, R1 is independently hydrogen atom, n is an integer of 1-50, R2 is C1˜C20 alkyl group, C3˜C20 cycloalkyl group, C6˜C20 aryl group or C7˜C12 arylalkyl group, R3 is hydrogen atom, C1˜C10 alcohol group or epoxy group and POSS is a polyhedral oligosilsesquioxane.

摘要翻译： 公开了一种在其主链上具有硅氧烷基团的聚合物及其组合物，用于形成有机抗反射涂层。 用于形成有机抗反射涂层的聚合物由下式表示。 在式中，R是氢原子，C 1 -C 20烷基，C 1 -C 10烷基 基团或环氧基团，R 1独立地是氢原子，n是1-50的整数，R 2是C 1 -C 6烷基， C 20 -C 20烷基，C 3 -C 20环烷基，C 6 -C 20烷基，C 1 -C 20烷基，C 3 -C 20环烷基，C 6 -C 20 >芳基或C 7-12 C 12芳烷基，R 3是氢原子，C 1 -C 4 醇基或环氧基，POSS是多面体低聚倍半硅氧烷。