公开(公告)号：US20070258080A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11418453

申请日：2006-05-05

申请人： Enno Brink ,  Henricus Wilhelmus Van Buel ,  Joseph Consolini ,  Gerardus Johannes Keijsers ,  Klaus Simon ,  Johannes De Smit ,  Richard Travers ,  Maurice Anton Teuwen ,  Arnout Meester ,  Frederick Hafner ,  Vinyu Greenlee ,  Hubertus Antonius Baijens

发明人： Enno Brink ,  Henricus Wilhelmus Van Buel ,  Joseph Consolini ,  Gerardus Johannes Keijsers ,  Klaus Simon ,  Johannes De Smit ,  Richard Travers ,  Maurice Anton Teuwen ,  Arnout Meester ,  Frederick Hafner ,  Vinyu Greenlee ,  Hubertus Antonius Baijens

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70691

摘要： According to one of the aspects of the present invention there is provided a substrate carrier arranged to hold a substrate in position using a vacuum, the vacuum being established in a sealed space created between the substrate carrier and the substrate.

摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种衬底载体，其布置成使用真空将衬底保持在适当位置，真空建立在衬底载体和衬底之间形成的密封空间中。

公开(公告)号：US07675606B2

公开(公告)日：2010-03-09

申请号：US11418453

申请日：2006-05-05

申请人： Enno Van Den Brink ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Joseph Consolini ,  Gerardus Johannes Joseph Keijsers ,  Klaus Simon ,  Johannes Theodoor De Smit ,  Richard Joseph Travers ,  Maurice Anton Jaques Teuwen ,  Arnout Johannes Meester ,  Frederick William Hafner ,  Vinyu Greenlee ,  Hubertus Antonius Marinus Baijens

发明人： Enno Van Den Brink ,  Henricus Wilhelmus Maria Van Buel ,  Joseph Consolini ,  Gerardus Johannes Joseph Keijsers ,  Klaus Simon ,  Johannes Theodoor De Smit ,  Richard Joseph Travers ,  Maurice Anton Jaques Teuwen ,  Arnout Johannes Meester ,  Frederick William Hafner ,  Vinyu Greenlee ,  Hubertus Antonius Marinus Baijens

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70691

摘要： According to one of the aspects of the present invention there is provided a substrate carrier arranged to hold a substrate in position using a vacuum, the vacuum being established in a sealed space created between the substrate carrier and the substrate.

摘要翻译： 根据本发明的一个方面，提供了一种用于使用真空将衬底保持在适当位置的衬底载体，真空建立在衬底载体和衬底之间形成的密封空间中。

公开(公告)号：US20090128792A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US12285602

申请日：2008-10-09

申请人： Rudy Jan, Maria Pellens ,  Keith Frank Best ,  Richard Joseph Travers ,  Frederick William Hafner ,  Vinyu Greenlee

发明人： Rudy Jan, Maria Pellens ,  Keith Frank Best ,  Richard Joseph Travers ,  Frederick William Hafner ,  Vinyu Greenlee

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/32 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7011 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

摘要： A method is disclosed that includes introducing a substrate into a pre-aligner of a lithographic apparatus, using a detector to measure the location of an alignment mark provided on a side of the substrate which is opposite to the location of the detector, and after measurement, putting the substrate onto a substrate table of the lithographic apparatus, the substrate being positioned on the substrate table such that the alignment mark provided on the opposite side of the substrate is visible through a window of the substrate table.

摘要翻译： 公开了一种方法，其包括将基板引入光刻设备的预对准器中，使用检测器来测量设置在与检测器的位置相对的基板的一侧上的对准标记的位置，并且在测量之后 将衬底放置在光刻设备的衬底台上，将衬底定位在衬底台上，使得通过衬底台的窗口可见通过设置在衬底的相对侧上的对准标记。