公开(公告)号：US06593585B1

公开(公告)日：2003-07-15

申请号：US09722398

申请日：2000-11-28

申请人： Erik R. Loopstra ,  Antonius J. J. van Dijsseldonk

发明人： Erik R. Loopstra ,  Antonius J. J. van Dijsseldonk

IPC分类号： G01B1100

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic projection apparatus the positions and/or orientations of reflective optical elements is dynamically controlled. The position of a reflective optical element such as a mirror in an illumination or projection system is first measured using an absolute position sensor mounted on a reference frame and thereafter measured by a relative position sensor also mounted on said reference frame. The position of the element is controlled in accordance with the measured position, e.g. to maintain it stationary in spite of vibrations that might otherwise disturb it. The absolute sensor may be a capacitive or inductive sensor and the relative sensor may be an interferometer.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，反射光学元件的位置和/或取向被动态地控制。 首先，使用安装在基准框架上的绝对位置传感器测量反射光学元件如照明或投影系统中的反射镜的位置，然后通过也安装在所述参考系上的相对位置传感器进行测量。 元件的位置根据测量位置进行控制，例如 以保持其静止，尽管可能会干扰它的振动。 绝对传感器可以是电容式或电感式传感器，并且相对传感器可以是干涉仪。

公开(公告)号：US06765218B2

公开(公告)日：2004-07-20

申请号：US10385444

申请日：2003-03-12

申请人： Erik R. Loopstra ,  Antonius J. J. van Dijsseldonk

发明人： Erik R. Loopstra ,  Antonius J. J. van Dijsseldonk

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic projection apparatus the positions and/or orientations of reflective optical elements is dynamically controlled. The position of a reflective optical element such as a mirror in an illumination or projection system is first measured using an absolute position sensor mounted on a reference frame and thereafter measured by a relative position sensor also mounted on said reference frame. The position of the element is controlled in accordance with the measured position, e.g. to maintain it stationary in spite of vibrations that might otherwise disturb it. The absolute sensor may be a capacitive or inductive sensor and the relative sensor may be an interferometer.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，反射光学元件的位置和/或取向被动态地控制。 首先，使用安装在基准框架上的绝对位置传感器测量反射光学元件如照明或投影系统中的反射镜的位置，然后通过也安装在所述参考系上的相对位置传感器进行测量。 元件的位置根据测量位置进行控制，例如 以保持其静止，尽管可能会干扰它的振动。 绝对传感器可以是电容式或电感式传感器，并且相对传感器可以是干涉仪。