公开(公告)号：US20050128459A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US10734642

申请日：2003-12-15

申请人： Erwin Zwet ,  Jan Elp ,  Johannes Hubertus Moors ,  Hendrik Neerhof ,  Joost Ottens ,  Adrianus Mathijs De Groof ,  Leo Wilhelmus Kuipers ,  Peter Theodorus Giesen ,  Marco Le Kluse

发明人： Erwin Zwet ,  Jan Elp ,  Johannes Hubertus Moors ,  Hendrik Neerhof ,  Joost Ottens ,  Adrianus Mathijs De Groof ,  Leo Wilhelmus Kuipers ,  Peter Theodorus Giesen ,  Marco Le Kluse

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H02N13/00 ,  G03B27/58

CPC分类号： H01L21/67259 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/7075

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation on a flat article to be placed in a beam path of the beam of radiation, and an article handler for handling the article during placement or removal of the article. The article handler includes an electrode and a dielectric layer in order to form an electrostatic clamp for electrostatically clamping the article.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 光刻设备包括用于在要放置在辐射束的光束路径中的平坦物品上提供辐射束的照明系统，以及用于在放置或移除物品期间处理物品的物品处理器。 物品处理器包括电极和电介质层，以形成用于静电夹紧物品的静电夹。