公开(公告)号：US20110175207A1

公开(公告)日：2011-07-21

申请号：US13000809

申请日：2009-06-23

Applicant: Hanno Schnars ,  Mathias Wickleder ,  Katharina Al-Shamery

Inventor： Hanno Schnars ,  Mathias Wickleder ,  Katharina Al-Shamery

IPC: H01L23/58 ,  H01L21/473 ,  B05C13/02 ,  B05C11/00 ,  B05C11/11 ,  B05C3/02 ,  B05B17/00

CPC classification number: H01L21/02192 ,  C03C17/25 ,  C03C23/007 ,  C03C2217/228 ,  C03C2218/112 ,  C23C18/1216 ,  H01L21/02194 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/28194 ,  H01L21/316 ,  H01L29/517 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: The invention relates to a method for producing metal oxide layers from oxides of rare earth metals on silicon-containing surfaces, to the device used to carry out the coating method, and to the use of the starting materials used in the method according to the invention for the coating method.

Abstract translation: 本发明涉及一种从含硅表面的稀土金属的氧化物生产金属氧化物层的方法，用于实施涂覆方法的装置以及根据本发明的方法中使用的原料的使用 用于涂布方法。