公开(公告)号：US07989088B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US10736368

申请日：2003-12-15

申请人： Hiroki Hamada ,  Isao Yoshida ,  Daniel J. Seale ,  Hui Zhang ,  Yang Maizhi ,  Ye Yufeng ,  Li Wu ,  M. Smy William

发明人： Hiroki Hamada ,  Isao Yoshida ,  Daniel J. Seale ,  Hui Zhang ,  Yang Maizhi ,  Ye Yufeng ,  Li Wu ,  M. Smy William

IPC分类号： H01J1/62 ,  B05D5/06 ,  G11B11/105

CPC分类号： B32B7/02 ,  C09K11/7745 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22 ,  Y10S428/917 ,  Y10T428/26

摘要： A novel sub-structure of a thick film dielectric electroluminescent display and a thick film dielectric electroluminescent display incorporating the same is provided. The sub-structure comprises a barrier layer between a substrate and a thick film dielectric layer. The barrier layer is chemically inert with respect to the substrate and the thick film dielectric layer and the barrier layer inhibits diffusion of at least one chemical species therethrough. This sub-structure results in a higher capacitance for the thick dielectric layer, which provides higher display luminance and a reduced tendency for dielectric breakdown of the thick dielectric layer. The barrier layer permits for lower cost substrates, such as glass, to be used.

摘要翻译： 提供了一种新颖的厚膜电介质电致发光显示器的子结构和包含其的厚膜电介质电致发光显示器。 子结构包括在衬底和厚膜电介质层之间的阻挡层。 阻挡层相对于基底是化学惰性的，并且厚膜介电层和阻挡层抑制至少一种化学物质的扩散。 该子结构导致较厚的电介质层的较高的电容，这提供了较高的显示亮度和降低的介电层的电介质击穿趋势。 阻挡层允许使用较低成本的基底，例如玻璃。

公开(公告)号：US06919126B2

公开(公告)日：2005-07-19

申请号：US10326777

申请日：2002-12-19

申请人： Li Wu ,  Ahn Sung-II ,  Yang Maizhi ,  Wu Xinguei ,  Lee Seong-Eui ,  Daniel J. Seale ,  William M. Smy ,  Yufeng Ye ,  Zhang Hui

发明人： Li Wu ,  Ahn Sung-II ,  Yang Maizhi ,  Wu Xinguei ,  Lee Seong-Eui ,  Daniel J. Seale ,  William M. Smy ,  Yufeng Ye ,  Zhang Hui

IPC分类号： C03C8/14 ,  C03C8/16 ,  C03C8/20 ,  C03C17/36 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22 ,  B32B9/00

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C8/14 ,  C03C8/16 ,  C03C8/20 ,  C03C17/3671 ,  C03C2217/452 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/948 ,  H05B33/10 ,  H05B33/145 ,  H05B33/22 ,  Y10S428/917 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/265

摘要： The present invention is a low firing temperature, composite thick film dielectric layer for an electroluminescent display. The composite thick film dielectric layer comprises; (a) a lower zone layer of a thick film composition comprising; one or more of lead magnesium niobate (PMN), lead magnesium niobate-titanate (PMN-PT), lead titanate, barium titanate and lead oxide; and a glass frit composition comprising lead oxide, boron oxide and silicon dioxide; (b) an upper zone comprising at least one layer of lead zirconate titanate (PZT) and/or barium titanate; and (c) an intermediate composite zone comprising a composite of (a) and (b).

摘要翻译： 本发明是用于电致发光显示器的低烧制温度的复合厚膜介电层。 复合厚膜介电层包括： （a）厚膜组合物的下区域层，其包含： 铌酸铅镁（PMN），铌酸铅镁钛酸铅（PMN-PT），钛酸铅，钛酸钡和氧化铅中的一种或多种; 和包含氧化铅，氧化硼和二氧化硅的玻璃料组合物; （b）包含至少一层锆钛酸铅（PZT）和/或钛酸钡的上部区域; 和（c）包含（a）和（b）的复合物的中间复合区。