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    PIXEL STRUCTURE AND FABRICATING METHOD THEREOF
    1.
    发明申请
    PIXEL STRUCTURE AND FABRICATING METHOD THEREOF 审中-公开
    像素结构及其制作方法

    公开(公告)号：US20090085032A1

    公开(公告)日：2009-04-02

    申请号：US12014098

    申请日：2008-01-15

    申请人： Hsien-Kun Chiu ,  Chin-Chuan Lai ,  Shau-Lin Lyu

    发明人： Hsien-Kun Chiu ,  Chin-Chuan Lai ,  Shau-Lin Lyu

    IPC分类号： H01L33/00 ,  H01L21/00

    CPC分类号： H01L27/1288 ,  H01L27/1214

    摘要： A method of fabricating a pixel structure is provided. First, a semiconductor material layer and a first conductive layer are sequentially formed on a substrate. Next, a first patterned photoresist layer with a fillister is formed on the first conductive layer by a first mask. A semiconductor layer, a drain, and a source are formed by the first patterned photoresist layer. After removing the first patterned photoresist layer, a dielectric material layer covering the source, the drain, and the semiconductor layer is formed. A second conductive layer is formed on the dielectric material layer. Then, a second patterned photoresist layer with a salient is formed on the second conductive layer by a second mask. A gate and a dielectric layer are formed by the second patterned photoresist layer. After removing the second patterned photoresist layer, a pixel electrode electrically connected to the drain is formed above the substrate.

    摘要翻译： 提供了一种制造像素结构的方法。 首先，在衬底上依次形成半导体材料层和第一导电层。 接下来，通过第一掩模在第一导电层上形成具有填充物的第一图案化光致抗蚀剂层。 半导体层，漏极和源极由第一图案化光致抗蚀剂层形成。 在去除第一图案化光致抗蚀剂层之后，形成覆盖源极，漏极和半导体层的电介质材料层。 在介电材料层上形成第二导电层。 然后，通过第二掩模在第二导电层上形成具有凸起的第二图案化光致抗蚀剂层。 栅极和电介质层由第二图案化光致抗蚀剂层形成。 在去除第二图案化光致抗蚀剂层之后，在衬底上形成电连接到漏极的像素电极。

    LIQUID CRYSTAL MATERIAL AND OPTICAL COMPENSATED BEND MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY
    3.
    发明申请
    LIQUID CRYSTAL MATERIAL AND OPTICAL COMPENSATED BEND MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY 有权
    液晶材料和光学补偿弯曲模式液晶显示

    公开(公告)号：US20100134736A1

    公开(公告)日：2010-06-03

    申请号：US12331432

    申请日：2008-12-10

    申请人： Hong-Cheu Lin ,  Ling-Yung Wang ,  Hsin-Yi Tsai ,  Chieh-Yin Tang ,  Chi-Neng Mo ,  Shau-Lin Lyu

    发明人： Hong-Cheu Lin ,  Ling-Yung Wang ,  Hsin-Yi Tsai ,  Chieh-Yin Tang ,  Chi-Neng Mo ,  Shau-Lin Lyu

    IPC分类号： G02F1/1335 ,  C09K19/20

    CPC分类号： C09K19/2007 ,  C09K19/3444 ,  C09K19/348 ,  C09K19/3491 ,  C09K19/3497 ,  C09K2019/0481 ,  G02F1/1395

    摘要： A liquid crystal material including an optical compensated bend mode liquid crystal molecule and a bend molecule is provided. The bend molecule has a structure presented as formula (1): In formula (1), the symbol A represents one of the following formulas: The symbol L represents hydrogen or fluorine, and the value r is one, two, three, four, five, six, seven or eight. Besides, the symbol X represents carboxyl group or cyano group. The symbol B represents one of the following formulas: The symbol L represents hydrogen or fluorine, and the value r is one, two, three, four, five, six, seven or eight. The symbol C represents alkyl, alkoxyl, alkylcarbonyl or alkoxycarbonyl group with 1 to 12 carbon atoms.

    摘要翻译： 提供了包括光学补偿弯曲模式液晶分子和弯曲分子的液晶材料。 弯曲分子具有如式（1）所示的结构：在式（1）中，符号A表示下式之一：符号L表示氢或氟，值r为1，2，3，4， 五六，七八。 此外，符号X表示羧基或氰基。 符号B表示下列公式之一：符号L表示氢或氟，值r为1,2,3,4,5,6,7或8。 符号C表示具有1至12个碳原子的烷基，烷氧基，烷基羰基或烷氧基羰基。