公开(公告)号：US5501877A

公开(公告)日：1996-03-26

申请号：US308156

申请日：1994-09-19

申请人： James H. Adair ,  Rajiv K. Singh ,  William R. Eisenstadt ,  Sherry S. Staehle

发明人： James H. Adair ,  Rajiv K. Singh ,  William R. Eisenstadt ,  Sherry S. Staehle

IPC分类号： C23C16/02 ,  C23C16/04 ,  C23C16/26 ,  C23C16/27 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C16/27 ,  C23C16/02 ,  C23C16/04

摘要： A method for creating a patterned thin film of a high surface energy material on a substrate comprising the steps of creating a photomask pattern on the substrate using photolithography, providing an oppositely charged surface on the substrate and photomask, if such does not exist, from that of particles of the high surface energy material, removing the photomask and exposing the substrate to an aqueous colloidal suspension of particles composed of the high surface energy material to adsorb seed particles onto the surface of the substrate, or removing the photomask after adsorbing seed particles to the surface, and then depositing a uniform thin film of the high surface energy material by chemical vapor deposition onto the seeded substrate.

摘要翻译： 一种用于在衬底上形成高表面能材料的图案化薄膜的方法，包括以下步骤：使用光刻法在衬底上产生光掩模图案，在衬底上提供相反电荷的表面和光掩模（如果不存在） 的高表面能材料的颗粒，去除光掩模，并将基底暴露于由高表面能材料构成的颗粒的水性胶体悬浮液中，以将种子颗粒吸附到基材的表面上，或者在将种子颗粒吸附到颗粒之后去除光掩模 然后通过化学气相沉积将高表面能材料的均匀薄膜沉积到接种的基底上。