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    Autofocus method in a scanning electron microscope
    1.
    发明申请
    Autofocus method in a scanning electron microscope 审中-公开
    自动对焦法在扫描电子显微镜下

    公开(公告)号：US20080237461A1

    公开(公告)日：2008-10-02

    申请号：US12079166

    申请日：2008-03-25

    申请人： Jong-Deok Kim ,  Byung-Am Lee ,  Kyung-Ho Kim ,  Byung-Seol Ahn ,  Young-Hun Park ,  Kong-Jung Sa

    发明人： Jong-Deok Kim ,  Byung-Am Lee ,  Kyung-Ho Kim ,  Byung-Seol Ahn ,  Young-Hun Park ,  Kong-Jung Sa

    IPC分类号： G21K7/00

    CPC分类号： H01J37/21 ,  H01J37/222 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/216

    摘要： In an autofocus method, an electron beam is scanned onto a subject through a condensing member. A setting condition of the condensing member is changed within a first range. An image evaluation value is measured using a secondary electron current from the subject according to the setting condition within the first range. A second range adjacent to the first range and including the setting condition corresponding to the first maximum is set when a first maximum of the image evaluation value is not a peak value. The setting condition is changed within the second range. An image evaluation value is measured using a secondary electron current according to the setting condition within the second range. The condensing member is set with the setting condition corresponding to a second maximum of the image evaluation value when the second maximum value is the peak value.

    摘要翻译： 在自动聚焦方法中，电子束通过聚光部件被扫描到被摄体上。 聚光部件的设定状态在第一范围内变化。 根据第一范围内的设定条件，使用来自被检体的二次电子流测定图像评价值。 当图像评估值的第一最大值不是峰值时，设置与第一范围相邻并且包括与第一最大值相对应的设置条件的第二范围。 设定条件在第二范围内变化。 根据第二范围内的设定条件，使用二次电子电流测定图像评价值。 当第二最大值是峰值时，聚光构件被设置为与图像评估值的第二最大值相对应的设置条件。

    Apparatus and method for inspecting patterns on wafers
    5.
    发明授权
    Apparatus and method for inspecting patterns on wafers 失效
    用于检查晶片上图案的装置和方法

    公开(公告)号：US07155366B2

    公开(公告)日：2006-12-26

    申请号：US10999066

    申请日：2004-11-30

    申请人： Chang-Hoon Lee ,  Byung-Am Lee ,  Byung-Seol Ahn ,  Jae-Sun Cho ,  Joo-Woo Kim ,  Sung-Man Lee

    发明人： Chang-Hoon Lee ,  Byung-Am Lee ,  Byung-Seol Ahn ,  Jae-Sun Cho ,  Joo-Woo Kim ,  Sung-Man Lee

    IPC分类号： G06F3/00

    CPC分类号： G01N21/95607

    摘要： A wafer pattern inspecting apparatus and method are disclosed. The apparatus comprises an image sensor to acquire image data from a reference die and a sample die, an external memory to store the image data, an encoder to compress the data, a decoder to decompress the data, an internal memory device to store the compressed image data of the reference die, an arithmetic module to process the image data for the reference dies to extract a reference image data, a reference storage memory to store compressed reference image data, and a comparison module to compare the sample die image data with the reference image data to an extract defect data for the sample die.

    摘要翻译： 公开了一种晶片图案检查装置和方法。 该装置包括：图像传感器，用于从参考管芯和样品管芯获取图像数据;存储图像数据的外部存储器;压缩数据的编码器;解压缩数据的解码器;存储压缩的内部存储器件; 参考管芯的图像数据，用于处理参考管芯的图像数据以提取参考图像数据的运算模块，用于存储压缩参考图像数据的参考存储存储器和比较模块，以将样本管芯图像数据与 将参考图像数据提取给样品管芯的提取缺陷数据。

    Apparatus and method for inspecting patterns on wafers
    7.
    发明申请
    Apparatus and method for inspecting patterns on wafers 失效
    用于检查晶片上图案的装置和方法

    公开(公告)号：US20050119844A1

    公开(公告)日：2005-06-02

    申请号：US10999066

    申请日：2004-11-30

    申请人： Chang-Hoon Lee ,  Byung-Am Lee ,  Byung-Seol Ahn ,  Jae-Sun Cho ,  Joo-Woo Kim ,  Sung-Man Lee

    发明人： Chang-Hoon Lee ,  Byung-Am Lee ,  Byung-Seol Ahn ,  Jae-Sun Cho ,  Joo-Woo Kim ,  Sung-Man Lee

    IPC分类号： H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G06F15/00

    CPC分类号： G01N21/95607

    摘要： A wafer pattern inspecting apparatus and method are disclosed. The apparatus comprises an image sensor to acquire image data from a reference die and a sample die, an external memory to store the image data, an encoder to compress the data, a decoder to decompress the data, an internal memory device to store the compressed image data of the reference die, an arithmetic module to process the image data for the reference dies to extract a reference image data, a reference storage memory to store compressed reference image data, and a comparison module to compare the sample die image data with the reference image data to an extract defect data for the sample die.

    摘要翻译： 公开了一种晶片图案检查装置和方法。 该装置包括：图像传感器，用于从参考管芯和样品管芯获取图像数据;存储图像数据的外部存储器;压缩数据的编码器;解压缩数据的解码器;存储压缩的内部存储器件; 参考管芯的图像数据，用于处理参考管芯的图像数据以提取参考图像数据的运算模块，用于存储压缩参考图像数据的参考存储存储器和比较模块，以将样本管芯图像数据与 将参考图像数据提取给样品管芯的提取缺陷数据。