公开(公告)号：US08557046B2

公开(公告)日：2013-10-15

申请号：US12769879

申请日：2010-04-29

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/243 ,  F27B17/0016 ,  F27B17/0075

摘要： A deposition source capable of uniformly producing a deposition film. The deposition source includes a furnace, a first heating unit surrounding the furnace to heat the furnace and a second heating unit spaced-apart from the first heating unit by an interval and surrounding the furnace to heat the furnace, wherein the second heating unit comprises a plurality of separate sub-heating units that surround the furnace.

摘要翻译： 能够均匀地产生沉积膜的沉积源。 沉积源包括炉子，围绕炉子加热炉子的第一加热单元和与第一加热单元间隔开并且围绕炉子加热炉子的第二加热单元，其中第二加热单元包括 围绕炉子的多个单独的次加热单元。

公开(公告)号：US20100275841A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：US12769879

申请日：2010-04-29

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Won-Seok Cho ,  Hey-Yeon Shim ,  Yong-Hun Jo ,  Sang-Jin Han

IPC分类号： B05C11/00 ,  C23C14/24 ,  F27D11/00

CPC分类号： C23C14/243 ,  F27B17/0016 ,  F27B17/0075

摘要： A deposition source capable of uniformly producing a deposition film. The deposition source includes a furnace, a first heating unit surrounding the furnace to heat the furnace and a second heating unit spaced-apart from the first heating unit by an interval and surrounding the furnace to heat the furnace, wherein the second heating unit comprises a plurality of separate sub-heating units that surround the furnace.

摘要翻译： 能够均匀地产生沉积膜的沉积源。 沉积源包括炉子，围绕炉子加热炉子的第一加热单元和与第一加热单元间隔开并且围绕炉子加热炉子的第二加热单元，其中第二加热单元包括 围绕炉子的多个单独的次加热单元。

公开(公告)号：US08482422B2

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US13437848

申请日：2012-04-02

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： G08B21/00

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20120186517A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13437848

申请日：2012-04-02

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： B05C13/00

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US08173481B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12962910

申请日：2010-12-08

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L51/40

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20110143473A1

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：US12962910

申请日：2010-12-08

申请人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

发明人： Chang-Soon Ji ,  Tae-Seung Kim ,  Jong-Woo Lee ,  Chengguo An

IPC分类号： H01L51/52 ,  B05C17/10

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  H01L51/56

摘要： A thin film deposition apparatus to remove static electricity generated between a substrate and a mask, and a method of manufacturing an organic light-emitting display device using the thin film deposition apparatus.

摘要翻译： 一种用于去除基板和掩模之间产生的静电的薄膜沉积装置，以及使用薄膜沉积装置制造有机发光显示装置的方法。

公开(公告)号：US20130280441A1

公开(公告)日：2013-10-24

申请号：US13923186

申请日：2013-06-20

申请人： Hye-Yeon Shim ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

发明人： Hye-Yeon Shim ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

IPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/30 ,  C23C14/26

CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A deposition source with uniform deposition characteristics includes a crucible in which a deposition material is disposed; a heat transfer member disposed on upper portions of the deposition material in the crucible; and an accommodation member for accommodating the heat transfer member and including a mesh plate.

摘要翻译： 具有均匀沉积特性的沉积源包括其中设置沉积材料的坩埚; 设置在所述坩埚中的所述沉积材料的上部的传热构件; 以及用于容纳传热构件并包括网板的容纳构件。

公开(公告)号：US20110076399A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12857665

申请日：2010-08-17

申请人： Hye-Yeon SHIM ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

发明人： Hye-Yeon SHIM ,  Chang-Soon Ji ,  Jong-Woo Lee ,  Do-Sung Kwon

IPC分类号： C23C16/448 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： A deposition source with uniform deposition characteristics includes a crucible in which a deposition material is disposed; a heat transfer member disposed on upper portions of the deposition material in the crucible; and an accommodation member for accommodating the heat transfer member and including a mesh plate.

摘要翻译： 具有均匀沉积特性的沉积源包括其中设置沉积材料的坩埚; 设置在所述坩埚中的所述沉积材料的上部的传热构件; 以及用于容纳传热构件并包括网板的容纳构件。

公开(公告)号：US08366831B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12654044

申请日：2009-12-08

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/243

摘要： The present invention relates to an evaporation source used in a vacuum deposition apparatus for forming an organic film or a metal film. The present invention provides an evaporation source including: a crucible accommodating a deposition material and having an opening portion through which the deposition material passes; a mesh member installed in the opening portion of the crucible and having a plurality of holes; and thermally conductive balls coated on the mesh member. Here, the thermally conductive balls are provided to cover the deposition material having a predetermined interval with the deposition material, not being mixed with the deposition material filling the crucible.

摘要翻译： 本发明涉及用于形成有机膜或金属膜的真空沉积设备中的蒸发源。 本发明提供一种蒸发源，包括：容纳沉积材料并具有沉积材料通过的开口部分的坩埚; 安装在所述坩埚的开口部分并具有多个孔的网状构件; 和涂覆在网状构件上的导热球。 这里，提供导热球以覆盖与沉积材料具有预定间隔的沉积材料，而不与填充坩埚的沉积材料混合。

公开(公告)号：US20100139564A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12654044

申请日：2009-12-08

申请人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim

发明人： Jong-Woo Lee ,  Tae-Seung Kim

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/243

摘要： The present invention relates to an evaporation source used in a vacuum deposition apparatus for forming an organic film or a metal film. The present invention provides an evaporation source including: a crucible accommodating a deposition material and having an opening portion through which the deposition material passes; a mesh member installed in the opening portion of the crucible and having a plurality of holes; and thermally conductive balls coated on the mesh member. Here, the thermally conductive balls are provided to cover the deposition material having a predetermined interval with the deposition material, not being mixed with the deposition material filling the crucible.

摘要翻译： 本发明涉及用于形成有机膜或金属膜的真空沉积设备中的蒸发源。 本发明提供一种蒸发源，包括：容纳沉积材料并具有沉积材料通过的开口部分的坩埚; 安装在所述坩埚的开口部分并具有多个孔的网状构件; 和涂覆在网状构件上的导热球。 这里，提供导热球以覆盖与沉积材料具有预定间隔的沉积材料，而不与填充坩埚的沉积材料混合。