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公开(公告)号：US08935981B2
公开(公告)日：2015-01-20
申请号：US13245288
申请日：2011-09-26
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/0002
摘要： Two-stage imprinting techniques capable of protecting fine patterned features of an imprint lithography template are herein described. In particular, such techniques may be used during fabrication of recessed high-contrast alignment marks for preventing deposited metal layers from coming into contact with fine features etched into the template.
摘要翻译： 这里描述能够保护压印光刻模板的精细图案化特征的两阶段压印技术。 特别地，这种技术可以在制造凹陷的高对比度对准标记期间使用，以防止沉积的金属层与蚀刻到模板中的精细特征接触。
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公开(公告)号：US08967992B2
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：US13455966
申请日：2012-04-25
CPC分类号： B29C43/58 , B29C59/00 , B29C2043/585 , B29K2105/24 , B29K2905/02 , B29K2995/0018 , B29K2995/0027 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G03F9/7084 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462
摘要： Imprint lithography templates having alignment marks with highly absorptive material. The alignment marks are insensitive to the effects of liquid spreading and can provide stability and increase contrast to alignment system during liquid imprint filling of template features.
摘要翻译： 压印光刻模板，具有高吸收性材料的对准标记。 对准标记对液体扩散的影响不敏感，并且可以在模板特征的液体印迹填充期间提供稳定性并增加对准系统的对比度。
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公开(公告)号：US20120269972A1
公开(公告)日：2012-10-25
申请号：US13455966
申请日：2012-04-25
CPC分类号： B29C43/58 , B29C59/00 , B29C2043/585 , B29K2105/24 , B29K2905/02 , B29K2995/0018 , B29K2995/0027 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G03F9/7084 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462
摘要： Imprint lithography templates having alignment marks with highly absorptive material. The alignment marks are insensitive to the effects of liquid spreading and can provide stability and increase contrast to alignment system during liquid imprint filling of template features.
摘要翻译： 压印光刻模板，具有高吸收性材料的对准标记。 对准标记对液体扩散的影响不敏感，并且可以在模板特征的液体印迹填充期间提供稳定性并增加对准系统的对比度。
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公开(公告)号：US20120073462A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：US13245288
申请日：2011-09-26
IPC分类号： B41F1/18
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/0002
摘要： Two-stage imprinting techniques capable of protecting fine patterned features of an imprint lithography template are herein described. In particular, such techniques may be used during fabrication of recessed high-contrast alignment marks for preventing deposited metal layers from coming into contact with fine features etched into the template.
摘要翻译： 这里描述能够保护压印光刻模板的精细图案化特征的两阶段压印技术。 特别地，这种技术可以在制造凹陷的高对比度对准标记期间使用，以防止沉积的金属层与蚀刻到模板中的精细特征接触。
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