公开(公告)号：US20080102402A1

公开(公告)日：2008-05-01

申请号：US11923392

申请日：2007-10-24

申请人： Jung-Youl LEE ,  Geun-Jong Yu ,  Sang-Jung Kim ,  Jae-Woo Lee ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

发明人： Jung-Youl LEE ,  Geun-Jong Yu ,  Sang-Jung Kim ,  Jae-Woo Lee ,  Deog-Bae Kim ,  Jae-Hyun Kim

IPC分类号： G03C1/73 ,  C07C309/01 ,  C07D209/82 ,  C07D221/06 ,  C08F12/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C309/00 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/74 ,  C07D209/48 ,  C07D221/06 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  C08F212/08

摘要： A photoresist monomer having a sulfonyl group, a polymer thereof and a photoresist composition containing the same are disclosed. The photoresist monomer is represented by following Formula. wherein, R* is a hydrogen atom or a methyl group, R1 and R2 are independently a C1˜C20 alkyl group, a C4˜C20 cycloalkyl group, a C6˜C20 aryl group or a C7˜C20 arylalkyl group, one of R1 and R2 may not exist, and R1 and R2 can be connected to form a ring.

摘要翻译： 公开了具有磺酰基的光致抗蚀剂单体，其聚合物和含有它们的光致抗蚀剂组合物。 光致抗蚀剂单体由下式表示。 其中R *是氢原子或甲基，R 1和R 2独立地是C 1 -C 20 C 1 -C 20烷基，C 4 -C 20环烷基，C 6 -C 20环烷基，C 1 -C 20烷基， 芳基或C 7-20芳基烷基，R 1和R 2中的一个可能不存在 ，并且R 1和R 2可以连接形成环。