公开(公告)号：US20140366806A1

公开(公告)日：2014-12-18

申请号：US14368161

申请日：2012-12-26

申请人： KIRIN BEER KABUSHIKI KAISHA

发明人： Hiroyuki Ooshima ,  Keiichi Fujimoto ,  Hiroyasu Tabuchi ,  Masaki Nakaya

IPC分类号： C23C16/46 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/27

CPC分类号： C23C16/46 ,  B65D23/02 ,  C23C16/045 ,  C23C16/27 ,  C23C16/345 ,  C23C16/401 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4488 ,  C23C16/455 ,  C23C16/54

摘要： The present invention relates to a film formation apparatus for forming thin films having high gas barrier performance, such as a DLC (Diamond Like Carbon) film, SiOx film, SiOC film, SiOCN film, SiNx film, and AIOx film, on the inner surface and/or outer surface of containers such as PET bottles. The film formation apparatus is provided with: a vacuum chamber for forming, in a vacuum state, a film on a surface of a container (4) using a heat generating element (21); a vacuum evacuation device for vacuumizing the vacuum chamber; and a relative shifting device for relatively shifting the container (4) and the heat generating element (21) in the vacuum chamber after starting vacuumization of the vacuum chamber.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在内表面上形成具有高阻气性的薄膜的成膜装置，例如DLC（类金刚石碳）膜，SiOx膜，SiOC膜，SiOCN膜，SiNx膜和AIOx膜 和/或诸如PET瓶的容器的外表面。 成膜装置具有：真空室，用于在真空状态下使用发热元件（21）在容器（4）的表面上形成膜; 用于真空室真空的真空排气装置; 以及相对移动装置，用于在真空室真空化真空之后相对地移动真空室中的容器（4）和发热元件（21）。