公开(公告)号：US06805135B1

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US09700704

申请日：2000-11-24

申请人： Kenichi Hirota ,  Hitoshi Yamada ,  Kiyoshi Yuasa ,  Eiji Yamaguchi ,  Shinichi Kawaguchi ,  Takahiro Shimoda ,  Nobuyuki Nagayama

发明人： Kenichi Hirota ,  Hitoshi Yamada ,  Kiyoshi Yuasa ,  Eiji Yamaguchi ,  Shinichi Kawaguchi ,  Takahiro Shimoda ,  Nobuyuki Nagayama

IPC分类号： C32G100

CPC分类号： H01L21/02052 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/28 ,  C11D11/0041 ,  Y10S438/905

摘要： A cleaning solution is used to remove a byproduct derived from a decomposed substance of a process gas containing C and F. The cleaning solution contains 75 wt % N-methyl-2-pyrrolidone, 15 wt % ethylene glycol monobutyl ether, 0.5 wt % surfactant, and 9.5 wt % water. The content of an alkali metal in the cleaning solution is set to be less than 10 ppb.

摘要翻译： 使用清洁溶液除去源自含有C和F的工艺气体的分解物质的副产物。清洗溶液含有75重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮，15重量％的乙二醇单丁醚，0.5重量％的表面活性剂 ，和9.5重量％的水。 清洗液中碱金属的含量设定为小于10ppb。