公开(公告)号：US08111900B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12780864

申请日：2010-05-15

申请人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

发明人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

IPC分类号： G06K9/00 ,  G01R31/26 ,  G21K5/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F1/84 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95676 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for sorting defects in a design pattern of a reticle includes searching for defects of interest in inspection data using priority information associated with individual defects in combination with one or more characteristics of a region proximate the individual defects. The priority information corresponds to modulation levels associated with the individual defects. The inspection data is generated by comparing images of the reticle generated for different values of a lithographic variable. The images include at least one reference image and at least one modulated image. A composite reference image can be generated from two or more reference images. The method also includes assigning one or more identifiers to the defects of interest. The identifier(s) may include, for example, a defect classification and/or an indicator identifying if the defects of interest are to be used for further processing.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于对掩模版的设计图案中的缺陷进行排序的一种方法包括使用与各个缺陷相关联的优先级信息，结合邻近各个缺陷的区域的一个或多个特征来搜索检查数据中的缺陷。 优先级信息对应于与各个缺陷相关联的调制级别。 通过比较为不同的光刻变量值生成的掩模版的图像来生成检查数据。 图像包括至少一个参考图像和至少一个调制图像。 可以从两个或更多个参考图像生成复合参考图像。 该方法还包括将一个或多个标识符分配给感兴趣的缺陷。 标识符可以包括例如缺陷分类和/或识别感兴趣的缺陷是否用于进一步处理的指示符。

公开(公告)号：US07729529B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US11005658

申请日：2004-12-07

申请人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

发明人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

IPC分类号： G06K9/00 ,  H01L21/66 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F1/84 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95676 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for sorting defects in a design pattern of a reticle includes searching for defects of interest in inspection data using priority information associated with individual defects in combination with one or more characteristics of a region proximate the individual defects. The priority information corresponds to modulation levels associated with the individual defects. The inspection data is generated by comparing images of the reticle generated for different values of a lithographic variable. The images include at least one reference image and at least one modulated image. A composite reference image can be generated from two or more reference images. The method also includes assigning one or more identifiers to the defects of interest. The identifier(s) may include, for example, a defect classification and/or an indicator identifying if the defects of interest are to be used for further processing.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于对掩模版的设计图案中的缺陷进行排序的一种方法包括使用与各个缺陷相关联的优先级信息，结合邻近各个缺陷的区域的一个或多个特征来搜索检查数据中的缺陷。 优先级信息对应于与各个缺陷相关联的调制级别。 通过比较为不同的光刻变量值生成的掩模版的图像来生成检查数据。 图像包括至少一个参考图像和至少一个调制图像。 可以从两个或更多个参考图像生成复合参考图像。 该方法还包括将一个或多个标识符分配给感兴趣的缺陷。 标识符可以包括例如缺陷分类和/或识别感兴趣的缺陷是否用于进一步处理的指标。

公开(公告)号：US20100226562A1

公开(公告)日：2010-09-09

申请号：US12780864

申请日：2010-05-15

申请人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkami

发明人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid B. Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkami

IPC分类号： G06K9/62

CPC分类号： G03F1/84 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95676 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for sorting defects in a design pattern of a reticle includes searching for defects of interest in inspection data using priority information associated with individual defects in combination with one or more characteristics of a region proximate the individual defects. The priority information corresponds to modulation levels associated with the individual defects. The inspection data is generated by comparing images of the reticle generated for different values of a lithographic variable. The images include at least one reference image and at least one modulated image. A composite reference image can be generated from two or more reference images. The method also includes assigning one or more identifiers to the defects of interest. The identifier(s) may include, for example, a defect classification and/or an indicator identifying if the defects of interest are to be used for further processing.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于对掩模版的设计图案中的缺陷进行排序的一种方法包括使用与各个缺陷相关联的优先级信息，结合邻近各个缺陷的区域的一个或多个特征来搜索检查数据中的缺陷。 优先级信息对应于与各个缺陷相关联的调制级别。 通过比较为不同的光刻变量值生成的掩模版的图像来生成检查数据。 图像包括至少一个参考图像和至少一个调制图像。 可以从两个或更多个参考图像生成复合参考图像。 该方法还包括将一个或多个标识符分配给感兴趣的缺陷。 标识符可以包括例如缺陷分类和/或识别感兴趣的缺陷是否用于进一步处理的指示符。

公开(公告)号：US20060291714A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11005658

申请日：2004-12-07

申请人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

发明人： Kenong Wu ,  David Randall ,  Kourosh Nafisi ,  Ramon Ynzunza ,  Ingrid Peterson ,  Ariel Tribble ,  Michal Kowalski ,  Lisheng Gao ,  Ashok Kulkarni

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F1/84 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95676 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70666

摘要： Various computer-implemented methods are provided. One method for sorting defects in a design pattern of a reticle includes searching for defects of interest in inspection data using priority information associated with individual defects in combination with one or more characteristics of a region proximate the individual defects. The priority information corresponds to modulation levels associated with the individual defects. The inspection data is generated by comparing images of the reticle generated for different values of a lithographic variable. The images include at least one reference image and at least one modulated image. A composite reference image can be generated from two or more reference images. The method also includes assigning one or more identifiers to the defects of interest. The identifier(s) may include, for example, a defect classification and/or an indicator identifying if the defects of interest are to be used for further processing.

摘要翻译： 提供了各种计算机实现的方法。 用于对掩模版的设计图案中的缺陷进行排序的一种方法包括使用与各个缺陷相关联的优先级信息，结合邻近各个缺陷的区域的一个或多个特征来搜索检查数据中的缺陷。 优先级信息对应于与各个缺陷相关联的调制级别。 通过比较为不同的光刻变量值生成的掩模版的图像来生成检查数据。 图像包括至少一个参考图像和至少一个调制图像。 可以从两个或更多个参考图像生成复合参考图像。 该方法还包括将一个或多个标识符分配给感兴趣的缺陷。 标识符可以包括例如缺陷分类和/或识别感兴趣的缺陷是否用于进一步处理的指标。