公开(公告)号：US20050074689A1

公开(公告)日：2005-04-07

申请号：US10679782

申请日：2003-10-06

申请人： Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  Arpan Mahorowila ,  Wayne Moreau ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Scooriyakumaren

发明人： Marie Angelopoulos ,  Wu-Song Huang ,  Arpan Mahorowila ,  Wayne Moreau ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Scooriyakumaren

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0754 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115

摘要： Antireflective compositions characterized by the presence of an Si-containing polymer having pendant chromophore moieties are useful antireflective coating/hardmask compositions in lithographic processes. These compositions provide outstanding optical, mechanical and etch selectivity properties while being applicable using spin-on application techniques. The compositions are especially useful in lithographic processes used to configure underlying material layers on a substrate, especially metal or semiconductor layers.

摘要翻译： 特征在于存在具有侧生发色团部分的含Si聚合物的抗反射组合物是光刻工艺中有用的抗反射涂层/硬掩模组合物。 这些组合物提供突出的光学，机械和蚀刻选择性，同时适用于使用旋涂应用技术。 所述组合物在用于在基材上，尤其是金属或半导体层上配置下层材料层的光刻工艺中特别有用。