公开(公告)号：US5901065A

公开(公告)日：1999-05-04

申请号：US597768

申请日：1996-02-07

申请人： Mohan Guruswamy ,  Daniel W. Dulitz ,  Robert Maziasz

发明人： Mohan Guruswamy ,  Daniel W. Dulitz ,  Robert Maziasz

IPC分类号： G06F17/50 ,  G06Q10/04 ,  H01L27/02 ,  H01L27/092 ,  G06F17/00

CPC分类号： G06F17/5068 ,  G06Q10/043 ,  H01L27/0203 ,  H01L27/0921

摘要： Methods (100, 200, 250) and data processing system (300) for automatically placing ties (136, 138, 146, 148) and connection elements within an integrated circuit (120). Integrated circuit dimensions (102), element locations and element dimensions (104), and tie placement rules (106) are received for a particular integrated circuit (120). The quantities are then processed to place ties within the integrated circuit (108). Tie placement rules include tie spacings (164, 166), well edge spacings (162), and diffusion spacings (168) to prevent SCR latch up and gate threshold voltage drift. Tie placement methods (100, 200) automatically place ties within the integrated circuit (120) to comply with tie spacing rules and also consider estimated compactions so that tie numbers are minimized. Associated data processing system (300) and computer readable medium operate in conjunction with the methods of the present invention. A method of making an integrated circuit (350) optimally places ties and connection elements within an integrated circuit design.

摘要翻译： 用于在集成电路（120）内自动放置连接（136,138,146,148）和连接元件的方法（100,200,250）和数据处理系统（300）。 针对特定集成电路（120）接收集成电路尺寸（102），元件位置和元件尺寸（104）以及连接放置规则（106）。 然后处理这些量以将联系放置在集成电路（108）内。 领带布置规则包括连接间距（164,166），边缘间距（162）和扩散间隔（168），以防止SCR闩锁和门限阈值电压漂移。 绑带放置方法（100,200）自动地将联系放在集成电路（120）内以符合连接间隔规则，并且考虑估计的压缩，使得系数最小化。 相关数据处理系统（300）和计算机可读介质结合本发明的方法进行操作。 制造集成电路（350）的方法最佳地将联结和连接元件放置在集成电路设计中。

公开(公告)号：US5737236A

公开(公告)日：1998-04-07

申请号：US598555

申请日：1996-02-08

申请人： Robert Maziasz ,  Mohankumar Guruswamy ,  Daniel W. Dulitz ,  David Blaauw ,  Larry Jones

发明人： Robert Maziasz ,  Mohankumar Guruswamy ,  Daniel W. Dulitz ,  David Blaauw ,  Larry Jones

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5068

摘要： The present invention relates to a method (100, 150, 200) and associated data processing system (250) for determining a standard cell height within an integrated circuit design. A plurality of cell types, each cell type including a plurality of cell structures are received (102). Then, weighting values are received, one for each cell type (104). Expected intercell connection densities are preferably also received. Various target cell heights are processed with the plurality of cell types, the weighting values, and the expected intercell connection densities to generate a standard cell height (106). The standard cell height used with the integrated circuit design produces an optimized integrated circuit area, preferably a minimum area. The present invention includes a method (200) and system (250) for selecting an optimized standard cell height that, when used with a place-and-route tool to generate a physical design file (204) produces an optimized physical integrated circuit design. A method of manufacture (300) is also included.

摘要翻译： 本发明涉及用于确定集成电路设计内的标准单元高度的方法（100,150,200）和相关联的数据处理系统（250）。 接收多个小区类型，包括多个小区结构的每个小区类型（102）。 然后，接收加权值，每个单元格类型（104）。 也可以接收预期的小区间连接密度。 用多个单元类型，加权值和预期的单元间连接密度来处理各个目标单元高度以产生标准单元高度（106）。 与集成电路设计一起使用的标准单元格高度产生优化的集成电路面积，优选最小面积。 本发明包括一种用于选择优化的标准单元高度的方法（200）和系统（250），当与用于生成物理设计文件（204）的放置和路径工具一起使用时，产生优化的物理集成电路设计。 还包括制造方法（300）。

公开(公告)号：US20070143716A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US10596944

申请日：2003-12-29

申请人： Robert Maziasz ,  Alexander Marchenko ,  Mikhail Sotnikov ,  Igor Topuzov

发明人： Robert Maziasz ,  Alexander Marchenko ,  Mikhail Sotnikov ,  Igor Topuzov

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081

摘要： A critical path minimization technique uses a novel reshaping layout reorganization mechanism. Circuit objects and/or object fragments which belong to a critical path in a reference direction are reshaped using resources of an orthogonal direction. A fragment may decrease its size in the layout in the reference direction and increase its size in the orthogonal direction. Types of reshaping include via, diode or tie reshaping, transistor chain reshaping by transistor finger resizing, and transistor chain reshaping by transistor finger removing. The removal technique can include removal of one (or 2N+1) transistor finger(s) from an edge (e.g., beginning or end) of a transistor chain, removal of two (or 2N) adjacent transistor fingers from any position of a transistor chain, removal of one (or 2N+1) transistor finger(s) from inside a transistor chain with diffusion gap insertion, and removal of a group or series of transistor fingers. Such reshaping can allow a more effective compaction of a circuit layout

摘要翻译： 关键路径最小化技术使用了一种新的整形布局重组机制。 归属于参考方向的关键路径的电路对象和/或对象片段使用正交方向的资源进行重新整形。 片段可能在参考方向上减小其布局尺寸，并增加其在正交方向上的尺寸。 重新组合的类型包括通孔，二极管或重新整形，通过晶体管手指调整大小的晶体管链整形，以及通过晶体管手指去除的晶体管链整形。 去除技术可以包括从晶体管链的边缘（例如，开始或结束）去除一个（或2N + 1）个晶体管指状物，从晶体管的任何位置去除两个（或2N）个相邻的晶体管指状物 链，从具有扩散间隙插入的晶体管链内部去除一个（或2N + 1）个晶体管手指，以及去除一组或一系列晶体管指。 这种整形可以允许更有效地压缩电路布局