公开(公告)号：US5456627A

公开(公告)日：1995-10-10

申请号：US148906

申请日：1993-12-20

申请人： Paul D. Jackson ,  Stephen C. Schultz ,  James E. Sanford ,  Glen Ong ,  Richard B. Rice ,  Parag S. Modi ,  John G. Baca

发明人： Paul D. Jackson ,  Stephen C. Schultz ,  James E. Sanford ,  Glen Ong ,  Richard B. Rice ,  Parag S. Modi ,  John G. Baca

IPC分类号： B24B49/18 ,  B24B53/007 ,  B24B53/017 ,  B24B53/02

CPC分类号： B24B53/017 ,  B24B49/18

摘要： An axially rotating circular polishing pad is conditioned by a rotating end effector that has an abrasion disc in contact with a polishing surface of the pad. The end effector moves along a radius of the polishing pad surface at a velocity that varies to compensate for locations on the polishing pad surface having linear velocities that are directly related to their respective radii. A desired contact force is maintained between the end effector and the polishing pad surface.

摘要翻译： 轴向旋转的圆形抛光垫由旋转的末端执行器调节，旋转末端执行器具有与垫的抛光表面接触的磨盘。 末端执行器沿着抛光垫表面的半径以改变的速度移动，以补偿抛光垫表面上的具有与其相应半径直接相关的线速度的位置。 在末端执行器和抛光垫表面之间保持期望的接触力。