公开(公告)号：US20140178599A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：US14236352

申请日：2012-09-04

申请人： Robin E. Wright ,  Nedlin B. Johnson ,  Margaux B. Mitera ,  Jayshree Seth

发明人： Robin E. Wright ,  Nedlin B. Johnson ,  Margaux B. Mitera ,  Jayshree Seth

IPC分类号： C09J7/02

CPC分类号： C09J7/38 ,  C09J7/20 ,  C09J2205/31 ,  C09J2433/00 ,  C09J2483/00

摘要： Methods of reducing tack of edge faces of a roll of an adhesive coated substrate. The method includes reducing tack of the edge faces by subjecting the edge faces to a radiation source with radiant output at a wavelength of less than 200 nanometers.

摘要翻译： 降低粘合剂涂覆的基材的辊的边缘面的粘性的方法。 该方法包括通过使边缘面处于波长小于200纳米的辐射输出的辐射源来减小边缘面的粘性。

公开(公告)号：US20130260146A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：US13879445

申请日：2011-10-13

申请人： Robin E. Wright ,  Margaux B. Mitera ,  Jayshree Seth

发明人： Robin E. Wright ,  Margaux B. Mitera ,  Jayshree Seth

IPC分类号： C09D183/04

CPC分类号： C09D183/04 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/067 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/2809

摘要： Methods of crossliiiking functional and nonfunctional silicones are described. The methods include exposing the silicones to ultraviolet radiation having a spectrum comprising at least one intensity peak below 240 nm in an inert atmosphere. Articles prepared by such methods, including release liners and adhesive articles are also described.

摘要翻译： 描述了功能性和非功能性硅氧烷交联方法。 所述方法包括将硅氧烷暴露于在惰性气氛中具有低于240nm的至少一个强度峰的光谱的紫外线辐射。 还描述了通过这些方法制备的制品，包括脱模衬垫和粘合剂制品。

公开(公告)号：US20130059105A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13590260

申请日：2012-08-21

申请人： Robin E. Wright ,  Margaux B. Mitera ,  Richard L. Walter ,  Jayshree Seth ,  Janet A. Venne

发明人： Robin E. Wright ,  Margaux B. Mitera ,  Richard L. Walter ,  Jayshree Seth ,  Janet A. Venne

IPC分类号： B05D3/06 ,  C09J7/02

CPC分类号： C09D133/14 ,  B05D3/065 ,  B05D5/08 ,  B05D2252/00 ,  C08G77/20 ,  C09D183/06 ,  C09J7/401 ,  C09J2205/31 ,  C09J2483/005 ,  D21H19/10 ,  D21H25/08 ,  Y10T428/1476

摘要： Methods for producing an at least partially cured layer by applying a layer including a (meth)acrylate-functional siloxane to a surface of a substrate, and irradiating the layer in a substantially inert atmosphere with a short wavelength polychromatic ultraviolet light source having a peak intensity at a wavelength of from about 160 nanometers to about 240 nanometers to at least partially cure the layer. Optionally, the layer is at a curing temperature greater than 25° C. In some embodiments, the layer has a thickness of about 0.1 micrometers to about 1 micrometer. In certain embodiments, the layer is substantially free of a photoinitiator and/or an organic solvent. In some particular embodiments, irradiating the layer with a short wavelength polychromatic ultraviolet light source takes place in an inert atmosphere including no greater than 50 ppm oxygen. The substantially cured layer may be a release layer or a low adhesion backsize (LAB).

摘要翻译： 用于通过将包含（甲基）丙烯酸酯官能化硅氧烷的层施加在基材的表面上并在基本惰性气氛中用具有峰强度的短波长多色紫外光源照射该层来制造至少部分固化的层的方法 在约160纳米至约240纳米的波长处至少部分地固化该层。 任选地，该层处于大于25℃的固化温度。在一些实施方案中，该层具有约0.1微米至约1微米的厚度。 在某些实施方案中，该层基本上不含光引发剂和/或有机溶剂。 在一些具体实施方案中，用短波长多色紫外光源照射该层，在包含不超过50ppm氧气的惰性气氛中进行。 基本上固化的层可以是脱模层或低粘合性尺寸（LAB）。