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    ELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF OPERATING AN ELECTRONIC DEVICE
    1.
    发明申请
    ELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF OPERATING AN ELECTRONIC DEVICE 有权
    电子设备和操作电子设备的方法

    公开(公告)号：US20150185476A1

    公开(公告)日：2015-07-02

    申请号：US14519415

    申请日：2014-10-21

    申请人： SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

    发明人： Kwang-Hoon LEE

    IPC分类号： G02B27/01 ,  G01B7/16

    CPC分类号： G02B27/017 ,  G01B7/18 ,  G01L1/142 ,  G01L1/18 ,  G01L1/22 ,  G02B2027/014 ,  G02B2027/0178 ,  G06K9/00885 ,  G09G2358/00

    摘要： An electronic device includes a frame to be worn by a user, at least one strain gauge coupled to the frame, and a control unit. The at least one strain gauge generates a deformation measurement signal indicative of an amount of strain caused by deformation of the frame. The control unit identifies the user wearing the frame based on the deformation measurement signal.

    摘要翻译： 一种电子设备包括用户要佩戴的框架，耦合到该框架的至少一个应变计和一个控制单元。 所述至少一个应变计产生指示由框架的变形引起的应变量的变形测量​​信号。 控制单元基于变形测量信号识别佩戴框架的用户。

    PHOTOMASK AND THIN-FILM TRANSISTOR FABRICATED USING THE PHOTOMASK
    2.
    发明申请
    PHOTOMASK AND THIN-FILM TRANSISTOR FABRICATED USING THE PHOTOMASK 有权
    光电子和薄膜晶体管使用光电制造

    公开(公告)号：US20140147774A1

    公开(公告)日：2014-05-29

    申请号：US14170603

    申请日：2014-02-01

    申请人： Samsung Display Co., LTD.

    发明人： Yeon-Ju KIM ,  Sung-Jae MOON ,  Yun-Jung CHO ,  Bum-Ki BAEK ,  Kwang-Hoon LEE ,  Byoung-Sun NA ,  Sung-Hoon YANG ,  Yoon-Jang KIM ,  Eun CHO

    IPC分类号： G03F1/38

    CPC分类号： G03F1/38 ,  G03F1/00 ,  G03F1/14 ,  G03F1/36 ,  H01L29/41733

    摘要： A photomask includes; a source electrode pattern including; a first electrode portion which extends in a first direction, a second electrode portion which extends in the first direction and is substantially parallel to the first electrode portion, and a third electrode portion which extends from a first end of the first electrode portion to a first end of the second electrode portion and is rounded with a first curvature, a drain electrode pattern which extends in the first direction and is disposed between the first electrode portion and the second electrode portion, wherein an end of the drain electrode pattern is rounded to correspond to the third electrode portion; and a channel region pattern which is disposed between the source electrode pattern and the drain electrode pattern, wherein a center location of the first curvature and a center location of the rounded portion of the end of the drain electrode pattern are the same.

    摘要翻译： 光掩模包括 源电极图案，包括： 沿第一方向延伸的第一电极部分，沿第一方向延伸并基本上平行于第一电极部分的第二电极部分，以及从第一电极部分的第一端延伸到第一电极部分的第三电极部分， 并且以第一曲率圆形化，漏电极图案，其沿第一方向延伸并且设置在第一电极部分和第二电极部分之间，其中漏极电极图案的端部被圆化以对应 到所述第三电极部分; 以及设置在源极电极图案和漏极电极图案之间的沟道区域图案，其中第一曲率的中心位置和漏极电极图案的端部的圆形部分的中心位置相同。