公开(公告)号：US20090294781A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12271775

申请日：2008-11-14

申请人： Seok-Won KIM ,  Won-Joon Ho ,  Hyuk-Jin Kwon ,  Chang-Mo Yoo

发明人： Seok-Won KIM ,  Won-Joon Ho ,  Hyuk-Jin Kwon ,  Chang-Mo Yoo

IPC分类号： H01L21/336 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L27/124 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/136236 ,  G02F2201/40 ,  G03F7/40 ,  G03F7/427 ,  H01L27/1288

摘要： A method of fabricating an array substrate for a liquid crystal display device includes: forming an initial photoresist (PR) pattern on a metallic material layer; etching the metallic material layer using the initial PR pattern as an etching mask to form the data line and a metallic material pattern, wherein the initial PR pattern is disposed on the data line; performing a first ashing process onto the initial PR pattern to partially remove the initial PR pattern so as to form a first ashed PR pattern, the first ashed PR pattern having a smaller width and a smaller thickness than the initial PR pattern such that end portions of the data line are exposed by the first ashed PR pattern; etching the intrinsic amorphous silicon layer and the impurity-doped amorphous silicon layer by a first dry-etching process; forming a source electrode and a drain electrode on the substrate.

摘要翻译： 制造液晶显示装置阵列基板的方法包括：在金属材料层上形成初始光致抗蚀剂（PR）图案; 使用初始PR图案蚀刻金属材料层作为蚀刻掩模以形成数据线和金属材料图案，其中初始PR图案设置在数据线上; 对初始PR图案执行第一灰化处理以部分地去除初始PR图案以形成第一灰化PR图案，第一灰化PR图案具有比初始PR图案更小的宽度和更小的厚度， 数据线由第一个灰色PR图案曝光; 通过第一干蚀刻工艺蚀刻本征非晶硅层和杂质掺杂非晶硅层; 在基板上形成源电极和漏电极。

公开(公告)号：US08183070B2

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：US12271775

申请日：2008-11-14

申请人： Seok-Won Kim ,  Won-Joon Ho ,  Hyuk-Jin Kwon ,  Chang-Mo Yoo

发明人： Seok-Won Kim ,  Won-Joon Ho ,  Hyuk-Jin Kwon ,  Chang-Mo Yoo

IPC分类号： H01L33/00

CPC分类号： H01L27/124 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/136236 ,  G02F2201/40 ,  G03F7/40 ,  G03F7/427 ,  H01L27/1288

摘要： A method of fabricating an array substrate for a liquid crystal display device includes: forming an initial photoresist (PR) pattern on a metallic material layer; etching the metallic material layer using the initial PR pattern as an etching mask to form the data line and a metallic material pattern, wherein the initial PR pattern is disposed on the data line; performing a first ashing process onto the initial PR pattern to partially remove the initial PR pattern so as to form a first ashed PR pattern, the first ashed PR pattern having a smaller width and a smaller thickness than the initial PR pattern such that end portions of the data line are exposed by the first ashed PR pattern; etching the intrinsic amorphous silicon layer and the impurity-doped amorphous silicon layer by a first dry-etching process; forming a source electrode and a drain electrode on the substrate.

摘要翻译： 制造液晶显示装置阵列基板的方法包括：在金属材料层上形成初始光致抗蚀剂（PR）图案; 使用初始PR图案蚀刻金属材料层作为蚀刻掩模以形成数据线和金属材料图案，其中初始PR图案设置在数据线上; 对初始PR图案执行第一灰化处理以部分地去除初始PR图案以形成第一灰化PR图案，第一灰化PR图案具有比初始PR图案更小的宽度和更小的厚度， 数据线由第一个灰色PR图案曝光; 通过第一干蚀刻工艺蚀刻本征非晶硅层和杂质掺杂非晶硅层; 在基板上形成源电极和漏电极。