公开(公告)号：US4626947A

公开(公告)日：1986-12-02

申请号：US460658

申请日：1983-01-24

申请人： Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mituo Sato ,  Masayuki Takagi ,  Sadanori Nagaike ,  Toshihiro Yoshida ,  Katsuya Mitsuoka

发明人： Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mituo Sato ,  Masayuki Takagi ,  Sadanori Nagaike ,  Toshihiro Yoshida ,  Katsuya Mitsuoka

IPC分类号： G11B5/31 ,  G11B5/147 ,  G11B5/127 ,  G11B5/187

CPC分类号： G11B5/3113

摘要： A thin film magnetic head comprises a lower magnetic member and an upper magnetic film which constitute a magnetic circuit having a magnetic gap at a predetermined location, and a conductor film forming a coil which intersects the magnetic circuit. At least the upper magnetic film has a magnetostriction constant which is not greater than 6.times.10.sup.-7 in the absolute value.

摘要翻译： 薄膜磁头包括构成在预定位置具有磁隙的磁路的下磁性构件和上磁性膜，以及形成与磁路交叉的线圈的导体膜。 至少上部磁性膜具有绝对值不大于6×10-7的磁致伸缩常数。

公开(公告)号：US4516180A

公开(公告)日：1985-05-07

申请号：US378176

申请日：1982-05-14

申请人： Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mituo Sato ,  Masayuki Takagi ,  Toshihiro Yoshida

发明人： Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mituo Sato ,  Masayuki Takagi ,  Toshihiro Yoshida

IPC分类号： G11B5/31 ,  G11B5/16

CPC分类号： G11B5/31

摘要： A thin film magnetic head comprises an upper magnetic film and a lower magnetic film which cooperate to constitute a magnetic circuit including a magnetic gap, and a coil conductor film constituting a coil having a predetermined number of turns and extending between the upper and the lower magnetic films to intersect the magnetic circuit. The upper magnetic film is composed of a laminate constituted by magnetic thin film layers and non-magnetic thin film layers stacked alternately with each other. An electrically insulating layer formed of a photo-sensitive resin is interposed between the upper magnetic film and the coil conductor film.

摘要翻译： 一种薄膜磁头，包括上部磁性膜和下部磁性膜，它们协调构成包括磁隙的磁路，以及构成具有预定匝数并在上部和下部磁性之间延伸的线圈的线圈导体膜 电影与磁路相交。 上磁性膜由由相互交替堆叠的磁性薄膜层和非磁性薄膜层构成的层叠体构成。 在上部磁性膜和线圈导体膜之间插入由光敏树脂形成的电绝缘层。

公开(公告)号：US4592801A

公开(公告)日：1986-06-03

申请号：US639012

申请日：1984-08-09

申请人： Shinichi Hara ,  Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mistuo Sato ,  Katsuya Mitsuoka ,  Makoto Morijiri ,  Masanobu Hanazono ,  Tetsuo Kobayashi

发明人： Shinichi Hara ,  Shinji Narishige ,  Tsuneo Yoshinari ,  Mistuo Sato ,  Katsuya Mitsuoka ,  Makoto Morijiri ,  Masanobu Hanazono ,  Tetsuo Kobayashi

IPC分类号： G11B5/31 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/06 ,  C23F1/02

CPC分类号： H01L21/31116 ,  H01L21/302 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163

摘要： A method of patterning a thin film by dry etching is disclosed in which, in order for a thin alumina film to have a predetermined pattern, the thin alumina film is selectively removed by carrying out the ion beam etching which uses a carbon fluoride gas, while using a photoresist film as a mask.

摘要翻译： 公开了一种通过干蚀刻图案化薄膜的方法，其中为了使氧化铝薄膜具有预定图案，通过进行使用氟化碳气体的离子束蚀刻来选择性地除去薄氧化铝膜，同时 使用光致抗蚀剂膜作为掩模。